テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタンは、現在、マイクロエレクトロニクス産業におけるプラズマエッチングガスの最大週間量であり、シリコン、二酸化ケイ素および他の薄膜村材料のエッチングに広く使用され、電子デバイスの表面洗浄、太陽電池の製造、レーザー技術などでは、アプリ...

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フッ素と窒素の混合ガス

フッ素と窒素の混合ガス

フッ素と窒素の混合ガスはファインケミカル分野の重要な原料であり、エレクトロニクス、レーザー技術、医療、プラスチックなどに広く使用されている。...

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三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス用のフッ素源として、2、エレクトロニクス産業（IC）におけるエッチング液および洗浄剤として、3、太陽光発電産業である。 NF3のその他の用途：パーフルオロアンモニウム塩の製造、電球の寿命と輝度を高める充填剤ガスとしての使用、鉱業...

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六フッ化硫黄 SF6 2551-62-4

六フッ化硫黄 SF6 2551-62-4

電子グレードの高純度六フッ化硫黄は、理想的な電子エッチング剤であり、マイクロエレクトロニクス技術の分野で広く使用されている。 冷凍業界では冷却剤として使用され、冷却範囲は-45℃～0℃である。 電気産業では、その高い絶縁耐力と優れた消弧特性を利用して、高電圧スイッチ、大容量変圧器、高...

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ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

1.絶縁ガス、プラズマエッチング剤、高誘電率冷却剤として使用される。 2.マイクロエレクトロニクス産業において、プラズマエッチングガス、デバイス表面洗浄、光ファイバー製造、低温冷凍に使用される。 ヘキサフルオロエタンは、無毒、無臭、高安定性のため、半導体製造工程で広く使用されている，例え...

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CXFL-43 （3M FC-43代替品)

Perfluorotri-N-Butylamine  CXFL-43…

chemical vapor deposition, and TFT production in the electronics and semiconductor industries. エレクトロニクスおよび半導体産業における検出、化学蒸着、TFT 製造に適しています ...

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