• 【シンポジウム開催】Annex 1改訂に伴う無菌製造の新たな基準 製品画像

    【シンポジウム開催】Annex 1改訂に伴う無菌製造の新たな基準

    PR製薬企業が考慮するポイントや最新のソリューションについてご紹介します …

    2023年8月25日に発効したEU GMP Annex 1の改訂版では、文書が大幅に拡充され、特にバリア技術に関する項目が強化されました。無菌製造プロセスにおいて製品の汚染を防ぐことが一層重視され、作業者からの汚染リスクを最小限に抑えるため、アイソレーターやRABSの導入が推奨されています。 この改訂は、世界中の製薬企業に影響を与え、無菌性を維持するための汚染管理戦略(CCS)策定が不可欠となって...

    メーカー・取り扱い企業: シンテゴンテクノロジー株式会社

  • Kuikomi Masse 超強力滑り止めステンレスプレート 製品画像

    Kuikomi Masse 超強力滑り止めステンレスプレート

    PR特許取得 一般的にはNGな加工も場合によっては有用になる事を証明した事…

    当社の超強力滑り止めステンレスプレート「Kuikomi Masse」のお困りごと解決事例をご紹介。 【ご相談内容】 食品工場様のご相談。 食材の煮炊きをよく行う釜の前のグレーチングや洗浄をよく行う場所でのステンレス製架台の天板が非常に滑りやすく危険。 現在縞鋼板製の架台であるが洗剤や油を流すとかなり滑りやすい状態になる。なんとならないか? 【製品特長】 当製品は特殊で通常NGとされる加工を板材の...

    • 20240712_085038222.jpg
    • 999.png
    • 111.jpg
    • 222.jpg
    • 333.jpg
    • 444.jpg
    • 555.jpg
    • 777.jpg
    • 888.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社大河内

  • 結晶欠陥検査装置『EnVision』 製品画像

    結晶欠陥検査装置『EnVision』

    非破壊/非接触!nmスケールのウェハー内部の拡張欠陥の検出とモニタリン…

    ■非破壊/非接触 ■従来の検査装置では確認できない欠陥を可視化 ■対象領域:活性デバイス領域(表面近傍) ■生シリコンと活性デバイス深さでの検出 ■専門知識は不要 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 【技術資料】分光エリプソメーター測定原理~偏光とは? ※資料進呈 製品画像

    【技術資料】分光エリプソメーター測定原理~偏光とは? ※資料進呈

    偏光・エリプソメーター・ブリュースター角など!図やグラフと共に分かりや…

    ンプルを例にして、解析モデルの作成手順をご説明します。 有効媒質近似モデル、Cauchyモデル、Tauc-Lorentzモデルを使用した解析の説明。 ■ご参加について 当社ホームページ(下記リンク)でご確認ください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※デモのご希望の方は、下記お問い合わせボタンより”デモ希望”と記載ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 4校_0722_orionkikai_300_300_2045050.jpg

PR