耐摩耗性、切れ味抜群！超硬丸ナイフ（丸刃）およびセラミック刃

PR超硬丸ナイフ、セラミック刃はアルスにお任せください。お客様のご要望の仕…

このようなお悩みを抱えていませんか。 ・市販の丸ナイフでは耐久性がなく、頻繁に替刃が必要 ・市販の丸ナイフでは、特殊素材がカットできない ・特注で刃を作りたいが、量が少なく高額になる ・市販規格の超硬丸ナイフを機械に取り付けたい アルスは、そんなお客様のお悩みを解決します。 金属粉、金属イオン、水分や水蒸気、薬剤を嫌う切断物には セラミック刃のご提案も可能です。 お客様...

メーカー・取り扱い企業： アルスコーポレーション株式会社

まるごと洗える撹拌機　ジェット式撹拌機AJITER×水圧モータ

PRいつも清潔　まるごと洗える撹拌機　オイルやグリースは不使用

水で撹拌機を動かすため設置環境には電気は不要。 またモータ・撹拌機本体はグリースやオイル等一切使用していません。 撹拌機まるごと水洗い可能でいつでも清潔です。 水産・食品工場等の油分を嫌うシチュエーションをはじめ、 危険場所や漏電の危険がある環境下等でも 安心してご使用いただけます。...【仕様】 ■型式：RJ02-ADS ■回転数：約350~1200rpm ■接液材質：（軸）SUS304/（翼）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社島崎エンジニアリング 本社

【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン

半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電…

酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。 塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。 しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありませ...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社 本社

【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析

半導体産業向け！プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化…

CD）の製造に用いられる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。 この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。 現像工程はフォトリソグラフィにおける重要な段階であり、生産効率を上げ...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社 本社

【プロセス分析計 技術資料】ウェハ用洗浄槽の品質管理

ウェハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインラ…

半導体メーカーではクリーンルーム内のウェットベンチで標準的な洗浄工程を行い、環境を管理し、さらなる汚染を防いでいます。しかし、このような環境では分析装置を設置するためのスペースが非常に限定的であることが一般的です。 試薬を使わず、より安全で効率的、かつ迅速に洗浄液の主要パラメータを同時にモニタリングするには近赤外分光法（NIRS）によるインライン分析が有効です。 オンライン分析計　プロセス分析計　イ...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社 本社