• 撹拌機「AJITER」×水圧モータ「NADS」 製品画像

    撹拌機「AJITER」×水圧モータ「NADS」

    PR水の力で撹拌機を動かす!エアーを使わないので空気が綺麗、電気を使わない…

    水道水を作動流にするNADSの水圧モータを使用した撹拌機です。 エアーを使わないので空気が綺麗、電気を使わないので環境に配慮した 安全・安心な撹拌機です。 【NADSとは?】 NADSはNACOL株式会社の新・水圧技術(ADS: Aqua Drive System)を 使用したポンプやモータ、リリーフ弁、ソレノイドバルブ等を展開する シリーズ。空圧や電気駆動では難しかった高性能な駆...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社島崎エンジニアリング 本社

  • 【デモ機あり】 粉体溶解機 / 粉末溶解ポンプ 製品画像

    【デモ機あり】 粉体溶解機 / 粉末溶解ポンプ

    PR様々な粉体を液体中に分散・溶解が可能! ダマや溶け残りなし・短時間処理…

    粉体の液体中への分散・溶解というと、タンク内の大型撹拌機で攪拌(撹拌)する、もしくはハンドミキサーで小容量の攪拌(撹拌)を何回も繰り返す、というのが一般的かと思います。ただ、これらの方法ではダマや粉体の溶け残り、処理時間が遅い、作業者に負担がかかるなど、お悩みはありませんか? 弊社の粉体溶解機を使用すれば粉体投入口が腰の位置にあるため、作業者の負担が軽減され効率的な作業が可能です。また、短時間で...

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    メーカー・取り扱い企業: 関西乳機株式会社

  • 半導体材料の最先端の原料 製品画像

    半導体材料の最先端の原料

    次世代半導体材料のための最先端の原料

    この化学物質は、中国の有名なチームによって開発されたもので、現在、29gの本製品を製造するための研究に成功し、98%以上の純度を実現しています。用途は、次世代有機半導体の原料です...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • ペルフルオロブタ-1,3-ジエン 685-63-2 C4F6  製品画像

    ペルフルオロブタ-1,3-ジエン 685-63-2 C4F6

    ペルフルオロブタ-1,3-ジエン 685-63-2 C4F6

    ペルフルオロブタ-1,3-ジエンは、パーフルオロブタジエン(HFBD)としても知られ、分子式はC4F6である。ペルフルオロブタ-1,3-ジエンは、合成樹脂やフッ素系物質の重要なモノマーであり、半導体産業におけるエッチングガスとしても高い選択性と精度で使用されている。そのほか、さらに、ヘキサフルオロブタジエンは、従来のパーフルオロカーボン(PFCs)エッチングガスに比べ、大気汚染や環境汚染が比...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • 四フッ化ゲルマニウム GeF4 7783-58-6 6N 製品画像

    四フッ化ゲルマニウム GeF4 7783-58-6 6N

    四フッ化ゲルマニウム GeF4 7783-58-6 6N

    四フッ化ゲルマニウムは重要な無機化合物の一種で、半導体分野では主にドーピングとイオン注入の時に使用されます。四フッ化ゲルマニウムはエチルシランガスと組み合わせることができ、直接ガラス基板上にシリコンゲルマニウム微結晶を作成し、低ノイズ低温アンプ、整流...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • ペンタフルオロホスホラン F5P 7647-19-0 製品画像

    ペンタフルオロホスホラン F5P 7647-19-0

    ペンタフルオロホスホラン F5P 7647-19-0

    ペンタフルオロホスホランは、一般的に使用される半導体エッチングガスで、シリコン系材料のエッチングや表面処理によく使用されます。 材料表面の有害な酸化物や有機汚染物質を迅速に除去し、半導体表面の化学的・物理的特性を変化させることができる。...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • オクタフルオロプロパン C3F8 76-19-7  製品画像

    オクタフルオロプロパン C3F8 76-19-7

    オクタフルオロプロパン C3F8 76-19-7

    半導体産業では、オクタフルオロプロパンはプラズマエッチング材料として使用され、医療では、オクタフルオロプロパンは網膜硝子体手術後の充填剤や超音波造影剤として使用され、オクタフルオロプロパンは冷凍混合物の製造にも使用されている。...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • ヘキサフルオロエタン C2F6  76-16-4  製品画像

    ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

    ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

    使用される。 2.マイクロエレクトロニクス産業において、プラズマエッチングガス、デバイス表面洗浄、光ファイバー製造、低温冷凍に使用される。 ヘキサフルオロエタンは、無毒、無臭、高安定性のため、半導体製造工程で広く使用されている,例えば、エッチャント(ドライエッチング)として。 化学蒸着(CVD、Chemical Vapor Deposition)後のキャビティの洗浄。特に半導体デバイスの発展...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • フルオロメタン CH3F 593-53-3 製品画像

    フルオロメタン CH3F 593-53-3

    フルオロメタン CH3F 593-53-3

    Si3N4の異方性エッチングガスとして、SiO2やSiに対する選択比が高く、3次元NAND、DRAM、Fin-FET半導体デバイス製造の前工程微細構造エッチングプロセスで注目されている...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • 3M FC-40代替品 製品画像

    3M FC-40代替品

    Perfluorotributylamine CXFL-40(3M F…

    many single phase heat transfer applications in the semiconductor manufacturing industry. 全フッ素化液体、半導体製造に適用。 ...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • CXFL-3283(3M FC-3283代替品 製品画像

    CXFL-3283(3M FC-3283代替品

    CXFL-3283(3M FC-3283代替品

    many single phase heat transfer applications in the semiconductor manufacturing industry. 全フッ素化液体、半導体製造に適用...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • CXFL-7000  (3M Novec 7000代替品) 製品画像

    CXFL-7000 (3M Novec 7000代替品)

    Methyl perfluoropropyl ether CXFL-7…

    sed as an automatic cascade refrigerant. CXFL-7000 フッ化物は、製薬および化学処理用途で反応器を冷却するための低温熱伝達流体として使用されます。 半導体業界では、このフッ素化液体は極低温を必要とする自動テスト装置やウェーハ処理装置に適しています。 自動カスケード冷媒としても使用できます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

  • CXFL-43 (3M FC-43代替品) 製品画像

    CXFL-43 (3M FC-43代替品)

    Perfluorotri-N-Butylamine  CXFL-43…

    vapor deposition, and TFT production in the electronics and semiconductor industries. エレクトロニクスおよび半導体産業における検出、化学蒸着、TFT 製造に適しています ...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

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