オゾンによる除菌メカニズム

オゾンによる除菌は、細胞膜を破壊！さらにオゾンは作用後、酸素へ戻ります

一般に、薬剤による除菌の場合、細菌やウイルスの細胞の核に作用し 除菌しますが、これではその薬剤に対する耐性を持った菌やウイルスが 発生する恐れがあります。 オゾンによる除菌は、細胞膜を破壊することで細胞の核が溶け、 耐性菌が発生する恐れはありません。 さらにオゾンは作用後、酸素へ戻ります。 【特長】 ■細胞膜を破壊 ■細胞の核が溶ける ■耐性菌が発生する恐れがない ...

メーカー・取り扱い企業： オーニット株式会社 本社工場

【資料】水素酸素ガス発生装置のガス分析結果報告書

水素酸素ガス発生装置「HH-10015000MSX」の定量分析結果を表…

当資料は、水素酸素ガス発生装置のガス分析結果に関する報告書です。 水素酸素ガス発生装置から発生するガスについて定量分析を行うことを 目的としており、分析項目をはじめ、分析方法や分析結果などを掲載。 ぜひご覧ください。 【掲載内容】 ■目的 ■試料名 ■分析項目 ■分析方法 ■分析結果 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...※詳し...

メーカー・取り扱い企業： Ｔ・Ｄ・Ｓ株式会社 本社

【資料】酸水素混合ガス発生装置と「スクワレン」との組合わせ使用

「スクワレンとは」や「無機ヨードと有機性ヨードと有機ヨードの違い」など…

当資料では、酸水素混合ガス発生装置と「スクワレン」との組合わせ使用 について紹介しています。 「有機ヨードとスクワレンとクリルオイル」をはじめ、「スクワレンとは」や 「オールランドのスクワレン」「無機ヨードと有機性ヨードと有機ヨードの 違い」などを掲載。 ぜひご覧ください。 【掲載内容（抜粋）】 ■酸水素混合ガス発生装置と「スクワレン」との組合わせ使用について ■有機ヨ...

メーカー・取り扱い企業： Ｔ・Ｄ・Ｓ株式会社 本社

【研究資料】酸水素混合ガス（CPG）吸引による人体に対する効果

「特に血液に起因する各種の病気に改善効果が出ていることの根拠」などご紹…

当資料では、『酸水素混合ガス（CPG）吸引による人体に対する効果』について ご紹介しています。 「特に血液に起因する各種の病気に改善効果が出ていることの根拠」をはじめ、 「細胞の活性化を促すことで、老化現象の進行を防止する」、 「CPG吸引による具体的な治験事例」などを掲載。 その他、ウイルス菌感染症に対する感染予防と重症化防止対策についても ご紹介しております。ぜひ、ご一読く...

メーカー・取り扱い企業： Ｔ・Ｄ・Ｓ株式会社 本社

【資料】ウイルス菌感染症に対する感染予防と重症化防止対策について

「TDS製酸水素混合ガス発生装置をご使用された方々からの生の声」などを…

当資料では、ウイルス菌感染症に対する感染予防と重症化防止対策について ご紹介しています。 「ウイルス感染症対策機器のご紹介」をはじめ、「酸水素混合ガス（CPG） 吸引による人体に対する効果」や「TDS製酸水素混合ガス発生装置を ご使用された方々からの生の声」などを掲載。 ぜひご覧ください。 【掲載内容】 ■ウイルス菌感染症に対する感染予防と重症化防止対策について ■ウイ...

メーカー・取り扱い企業： Ｔ・Ｄ・Ｓ株式会社 本社

京都理化学器械株式会社　公式販売サイト　「りかぽち」

理化学機器の幅広い分野の製品を取り扱っています。

アズワン製品からビーカーやフラスコなどの理科の実験器具から、ヤマト科学製品、堀場製品など幅広い分野の理化学製品を取り扱っています。 お見積から購入まですべてサポート。 お気軽にご相談下さい。 りかぽち 登録申し込みはこちらから↓↓ https://kyotorika.co.jp/rikapochi/ ...京都理化学器械株式会社　公式ECサイト 主要取扱製品 アズワン、ヤマト...

メーカー・取り扱い企業： 京都理化学器械 株式会社 本社

二酸化塩素ガス除染システム

拡散性に優れ、大空間に適用しやすい！現場で二液を反応させてガスを発生さ…

『二酸化塩素ガス除染システム』は、現場で二液を反応させて ガスを発生させるシステムのため、安定したガス供給が可能です。 優れた除染能力を持ち、芽胞菌にも有効。 ガスの回収時間が短く、除染時間が短縮できます。 この他にも、二酸化塩素ガス除染システムは、多くの特長があります。 除染手法の選択肢として、ぜひご検討をお願い致します。 【特長】 ■安定したガス供給が可能 ■優れ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トラステック愛知 本社

プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…

Particle-PLUSは、粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです。プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに有効なソフトです。二周波CCPや外部回路モデルなどの高度な物理モデルに対する解析も可能です。充実したサポートによりシミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことができます。プラズマを解析するのに粒子モデルを用い、電子・イオンを代表する粒...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とする ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCC...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CVD装置用　解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

『Particle-PLUS』はCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適した シミュレーションソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析 ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

『Particle-PLUS』はICPやCCPにも対応した プラズマを用いた装置・デバイス研究開発に適したソフトウェアです ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのシミュレーションを得意とする ・ICP シミュレーションのための誘導加熱の計算機能 ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析 ・ICP とCCP を同時にシミュレートすることが可能 ・2D(2次元),3D(3次...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する3Dでの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

長い円筒パイプの内側に強い膜を成膜する方法のひとつである円筒標的を用いたマグネトロンスパッタの解析事例です Particle-PLUSで利用可能な 1)軸対称モデル 2)鏡面対称境界条件を組み合わせることで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく高速に結果を得ることができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

CCP（容量結合プラズマ）装置のプラズマ解析に関する事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても 高速にシミュレーションを行うことができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析

Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ（CC…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

小型窒素ガス発生装置『Mシリーズ（MNT）』

オイルフリーコンプレッサ内蔵！小型窒素ガス発生装置（純度95～99.9…

『Mシリーズ（MNT）』は、装置の小型化・メンテナンス性の向上を追求した装置です。 マルチレイアウトパッケージの採用により、設置場所に合わせてタッチパネル面、排気ダクトの向きを選択することが可能です。 小型のオイルフリーコンプレッサを内蔵しておりますので、AC100Vの電源があれば、移動して使用することができます。 【特長】 ■設置スペースに合わせてタッチパネル面を選択可能 ■マルチ...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP（容量結合プラズマ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 　高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS　回転ターゲットのマグネトロン

カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

精密プレッシャーレギュレータ『MODEL 6600SERIES』

耐圧は0.8MPa(G)！一次側圧力変動、二次側圧力変動に対して、再現…

『MODEL 6600 SERIES』は、ノンブリード仕様の精密プレッシャーレギュレータです。 パネル取付けに好適な入口出口配置。一次側圧力変動、二次側圧力変動に対して、 再現性±1％の高い制御性があります。 また、最大流量10L/min、20L/minで、設定圧力(気体)は二次側0.01～0.6MPa(G)と なっております。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

PSA式窒素ガス発生装置　SLMシリーズ

未来志向の技術で一新、すべての性能を大幅にアップさせ、極限まで小型スリ…

オイルフリーミニコンプレッサー内蔵 窒素ガス発生装置 ・設置場所を選ばすメンテナンスも簡単（内部構造は意匠登録済み） 輸送時の圧縮機固定ビスがなくなり、電気配線、配管つなぎ込みも背面より筐体を開くことなく可能、通常点検やメンテナンスは全面の扉を開くだけで行えます。 ・長いメンテナンスサイクル 信頼性の高い国内メーカー製のオイルフリーコンプレッサーを複数台搭載。装置内の換気効率の改善によ...

メーカー・取り扱い企業： 京都理化学器械 株式会社 本社

業務用オゾン発生器『ナノゾンエアー KSD-250F-CR』

オゾンの力で除菌・脱臭！人や環境に配慮した業務用オゾン発生器

『ナノゾンエアー KSD-250F-CR』は、ホテルや旅館をはじめ、病院、 老介護施設などの衛生管理に適した業務用オゾン発生器です。 人体や自然に配慮した微量なオゾンを放出し、室内の臭分子や有機物と 反応させ酸化分解することで室内空気を活性化します。 部屋数の多い施設では、ルームクリーニングの際に当製品を持ち運んで ご使用いただければ、1台で全ての部屋の除菌・脱臭ができるため、 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムズ 本社

CADでカンタン流体解析『Simerics MP for SW』

SOLIDWORKS上で高度な解析が簡単に行える！開発期間の短縮やコス…

『Simerics MP for SOLIDWORKS』はSOLIDWORKS上で操作できる CAD統合型熱流体解析ソフトウェアです。 SOLIDWORKSのGUIに統合され、設計から解析まで設計者自身で行えます。 計算設定も簡単なため、短期間で操作の習得が可能。 最適形状の検討や、問題の原因究明、性能の確認など 従来は外部に依頼していた各種解析を設計者自身で行うことで 開発期...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

PSA式窒素ガス発生装置　TAC-miniシリーズ

省エネ運転を搭載した上位モデルTAC シリーズの特徴をそのままに大幅な…

高寿命のオイルフリーベビコンを搭載TACシリーズの特徴をそのままに大幅な小型化とコストパフォーマンスを実現、もちろんタッチパネル操作で簡単にオペレーティングが簡単です。 ・インバーター内蔵省エネ運転 　三相モーターを採用しインバーターを内蔵50/60Hzどちらでも同じ性能で使用可能、単相200Vも選択可能なので一般事務所などで三相電源がなくても設置可能です。吸着時間コントロールによる省エネ...

メーカー・取り扱い企業： 京都理化学器械 株式会社 本社

プレッシャーレギュレータ『MODEL 6700 SERIES』

設定圧力(気体)は二次側0.01～0.6MPa(G)！当社が取り扱うノ…

『MODEL 6700 SERIES』は、最大流量50L/minの大流量用プレッシャー レギュレータです。 ノンブリード仕様で、環境温度は5～60℃。最低動作差圧は0.05MPaです。 また、一次側圧力変動、二次側圧力変動に対して、再現性±1％の高い 制御性を有しております。 【標準仕様(一部)】 ■一次側最大圧力：0.9MPa(G) ■二次側設定圧力 　・6700A：...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

小型酸素ガス発生装置『Mシリーズ（MOX）』

新規設計の専用基盤の採用！オイルフリーコンプレッサ内蔵の酸素ガス発生装…

『Mシリーズ（MOX）』は、装置の小型化・メンテナンス性の向上を追求した装置です。 4NL/min、8NL/minの発生量がラインナップされています。 小型コンプレッサ内蔵で、AC100Vのコンセントがあれば、どこにでも設置が可能です。 酸素ガスボンベ交換の手間が不要で、大学・研究所などで幅広く使用されております。 【特長】 ■設置スペースに合わせてタッチパネル面を選択可能 ■マル...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

低圧力調整用精密プレッシャーレギュレータ『MODEL 6610』

一次側最大圧力は0.4MPa(G)、二次側設定圧力は0.01～0.15…

『MODEL 6610』は、ロックナット付構造の低圧力調整用精密プレッシャー レギュレータです。 一次側圧力変動、二次側圧力変動に対して、再現性±1％の高い制御性を 有し、最低動作差圧は0.1MPa。 また、接ガス部ノングリス仕様で、設定圧力(気体)は二次側0.01～0.15MPa(G)と なっています。 【標準仕様(一部)】 ■一次側最大圧力：0.4MPa(G) ■二...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

フローメータ内蔵型ガス混合装置『GM SERIES』

優れた安定性と再現性！幅広い分野で数多くの実績があり、高く評価されてお…

『GM SERIES』は、KOFLOCのメカニカルな精密流量制御バルブとフロー メータによるガス混合装置です。 本装置には、気体の微少流量範囲の精密な流量制御を可能にした定流量 ユニットが内蔵されております。 流量設定は、相互干渉無く確実容易で、本装置に接続する負荷の圧力に 変動が生じても安定した混合ガスが一定供給されるようになっております。 【特長】 ■安定性、再現性に...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…

基盤に低ダメージな成膜手法のひとつである、対向ターゲット式スパッタの解析事例です。 3D計算は、2D計算と比較して計算コストは大きくなりますが、 より複雑な形状とそこからの影響を考慮してシミュレーションを行えます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社