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18件 - メーカー・取り扱い企業
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PR繰り返し使うことで環境負荷削減！金属製の高性能な高温集塵フィルター。
「パイロスクリーン」は、ステンレスまたは、アルミ製の高温集塵フィルターです。 ダストを含んだ気流を強制的に方向転換させるスクリーンを10枚複合することで、90～99%以上の除塵効率を実現しました。 圧力損失が極めて小さい点、材質・構造から高強度な点が大きな特長です。 【パイロスクリーンの特長・メリット】 ■乾性・湿性どちらにも使用可能 ステンレス製フィルターなので乾・湿どちらにも使...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社布引製作所 本社
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PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます
当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...
メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社
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シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能！電子工業の業界で使用…
【処理条件】 ■濃度：30％～原液 ■温度：70～105℃ ■時間：20～180秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能！液疲労が小さく非常…
【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：50～70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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エナメル電線皮膜を剥離することが可能！塩素系、アミン系の溶剤を含有して…
は、対象物を浸漬し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：30～120分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています
【処理条件】 ■濃度：0.5～1％ ■温度：常温 ■時間：10～60秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています
【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離用途として好適！有機アルカリタイプ
離液です。 有機アルカリタイプの水溶性塗料剥離剤のため、鉄鋼、非鉄金属製の 治具等の塗料剥離用途として好適。 18kg缶／200kgドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離を促進に好適！
『アンラスト RMO-C』は、高温使用が可能の為、剥離性に優れている 塗装剥離液です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高濃度タイプの為、添加量が少なくてすみ、 塩素系溶剤、有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに3～7％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応！苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
り、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度：原液処理 ■温度：50～70℃ ■時間：5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます
にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに！高温使用が可能の為、剥離性に優れ…
P』は、浴寿命が長く経済的な塗装剥離液です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに2～5％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
ラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…
液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能！
フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…
ィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応！浸透性が高いため、細部まで剥離が可能！
板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所
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除染ガス発生装置『steriXcure』
養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不…
水戸工業株式会社