少量生産に好適！『卓上型上面用ラベラー』※丸ボトル用ラベラーも有

PR貼り付け速度は最大16m/分、電気消費量は400VA！当社の2種類のラ…

当社で取り扱っている、卓上型上面用ラベラー『MODEL ELF-20』について ご紹介いたします。 操作や型替えがとても簡単で、少量生産に好適。 ホットスタンププリンターと透明ラベルセンサーの2つの オプションがございます。 また、丸ボトル用の卓上型ラベラー「MODEL ELF-50」もご用意しております。 【MODEL ELF-20の仕様(抜粋)】 ■電源：AC100V、50/60Hz、単...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アキュレックス 本社、大阪営業所

フェイス合わせ装置『PBD-30型』

PR異種、異常ボトルの検査・ラベラー機前のボトル容器の向き合わせに！　ノズ…

『PBD-30型』は、画像マッチング機能で異種、異常ボトル容器の検査が可能です。 『PBD-30型』のメイン機能としては、ボトル容器の向きを任意の位置で一定に合わせるフェイス合わせ機能を持っているのでＰＯＰラベラー機の前に設置する事で、ボトル容器のキャップやノズルの向きとラベルの貼り付け位置を合わせる事ができます。 設定は最初にボトル容器の全周画像を自動で取込み、モニターに表示された全周画...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プランナー

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

■ステージ 最小分解能：5nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：5nm 最大動作速度設定値：30mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます） 制御イン...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

1nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm

■ステージ 最小分解能：1nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：5mm/sec（UPシリーズ） ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：1nm 最大動作速度設定値：6mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます） 制御インターフェース：ジョ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により10nm…

■ステージ 最小分解能：10nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：10nm 最大動作速度設定値：50mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます） 制御イ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　サブミクロン分解能で位置決め　可動…

■ステージ 最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：100nm or 50nm 最大動作速度設定値：100mm/sec（ステージの最大移動速度が優先...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージシステム

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm…

■ステージ 最小分解能：1nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：1nm 最大動作速度設定値：6mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます） 制御インタ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1040PX/XY

【ストローク40mm】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置保持…

最小分解能：10nm 最大移動速度：10mm/sec（FC-511使用時） ストローク：40mm 対応コントローラ：FC-511 ■詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい■...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社