【SDGs対応】高温集塵フィルター『パイロスクリーン』

PR繰り返し使うことで環境負荷削減！金属製の高性能な高温集塵フィルター。

「パイロスクリーン」は、ステンレスまたは、アルミ製の高温集塵フィルターです。 ダストを含んだ気流を強制的に方向転換させるスクリーンを10枚複合することで、90～99%以上の除塵効率を実現しました。 圧力損失が極めて小さい点、材質・構造から高強度な点が大きな特長です。 【パイロスクリーンの特長・メリット】 ■乾性・湿性どちらにも使用可能 　ステンレス製フィルターなので乾・湿どちらにも使...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社布引製作所 本社

【無償サンプル提供】エキス『NC真昆布L-1』

PR強いうま味を付与可能！後味の異味が少なく、真昆布本来の上品なうま味を再…

『NC真昆布L-1』は、だし感の付与、中～後味のうま味強化、素材訴求に 活用できる昆布エキスです。 素材の風味を引き立て、自然なだし感を付与可能。 全体的な味が底上げされ、まとまりのある味に仕上げます。 また、最高級品といわれる真昆布のみを使用しており、 高級感のあるメニュー開発にご活用いただけます。 【特長】 ■厳選した北海道道南産の真昆布原料を使用 ■特殊抽出製法 ■調味料(アミノ酸等)...

メーカー・取り扱い企業： 焼津水産化学工業株式会社 静岡本部

マイクロコンタクトプリンター『PA400S』

高精度コンタクト圧制御！簡易的な光ナノインプリント実験も可能

マイクロコンタクトプリンター『PA400S』は、次世代のデバイス製作手法 として注目を集めるmCP（micro contact printing）法や簡易的な 光ナノインプリント（UV－NIL）法に対応する マイクロコンタクトプリント装置です。 mCP法は急速に展開してきた有機エレクトロニクス分野や バイオ用マイクロ構造体などを、PDMSスタンプによるチオールインク転写 によって製...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック

研究室向け簡易マスク作製機『MM605』

ローコストで手軽にマスク製作！多品種のデバイス開発に最適

『MM605』は1/5縮小露光の研究室向け簡易フォトマスク作製機です。 各種半導体・MEMS微小構造物製作のためには欠かせない フォトマスクは、特に大学・研究所において種類豊富に必要となります。 本装置は研究室レベルで簡単にフォトマスクを作製するための装置で、 お手持ちのグラフィックソフトやCADシステム等でプリントした図面を OHPフイルムにコピーしマスク原版として使用します。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック

実験・研究用マスクアライナー『ES410』

ローコストでフォトリソグラフイに必要な機能を完備！マスクアライナー

『実験・研究用マスクアライナー『ES410』は、ローコストながら フォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。 ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットや オプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置に セットアップ可能です。 また、ほとんどのユニットが後から追加・変更できるので、 将来のグレードアップにも対応致します。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』

ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。 二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。 お気軽にお問い合わせください。 【...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック

試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』

プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光！ナノテックの露光…

試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』は、 従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを 可能にするローコストなマスクアライメント装置です。 本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、 その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンを アライメントして露光できます。 コンパクトなので通常の片面露光マスクアライナーとしても使用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック