アブソデックス(ABSODEX) AX1R/2R/4R・AXD

PR軸受けやブラケット等を別途設置する必要なく負荷をダイレクトに取り付ける…

簡単にインデックステーブルの装置を作ることができるので、 設計工数と組立工数を削減し、生産設備のシンプル化と生産効率UPに貢献します。 【生産設備のシンプル化】 複数の部品を組み合わせて構成したインデックステーブルの機構をアブソデックス1つで置換え可能。 部品点数・設計工数の削減や、省スペース・センサレス・メンテナンスフリーなど、生産設備のシンプル化に貢献。 【フレキシブル動作】...

メーカー・取り扱い企業： ＣＫＤ株式会社

PFAS分析に貢献！超高感度分析用超純水装置【デモ機対応可能】

PRPFAS分析にも、超高感度TQ ICPMSにも対応しているため、高感度…

今使っている超純水装置ではPFAS分析に使えない！ またPFAS分析用の超純水を購入して使うのはコストがかかるし、面倒だ！ こんな悩みをお持ちの分析者の方はいませんか？ エルガ・ラボウォーターの『PURELAB Chorus 1 Analytical Research』ならPFAS分析にそのまま使えます。 同時にTQ ICPMSでの超微量元素分析にもそのまま使えます！ 【LCMSMSを用いた超...

メーカー・取り扱い企業： ヴェオリア・ジェネッツ株式会社 エルガ・ラボウォーター事業部

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令：消防法　危険物第四類第1石油類 ※詳...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

防・除錆剤『アンラスト CK』

常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています

『アンラスト CK』は、簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストでの 運用が可能な防・除錆剤です。 アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能。 また、常温下、短時間の処理で運用が可能の為、作業に負担がかかりません。 【特長】 ■簡単な処理で変色防止効果を発揮 ■低コストでの運用が可能 ■アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能 ■常温下、短時間の処理で運用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所