【SDGs対応】高温集塵フィルター『パイロスクリーン』

PR繰り返し使うことで環境負荷削減！金属製の高性能な高温集塵フィルター。

「パイロスクリーン」は、ステンレスまたは、アルミ製の高温集塵フィルターです。 ダストを含んだ気流を強制的に方向転換させるスクリーンを10枚複合することで、90～99%以上の除塵効率を実現しました。 圧力損失が極めて小さい点、材質・構造から高強度な点が大きな特長です。 【パイロスクリーンの特長・メリット】 ■乾性・湿性どちらにも使用可能 　ステンレス製フィルターなので乾・湿どちらにも使...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社布引製作所 本社

健康食品向け原料『バイオペリン（R）』＜展示会出展＞

PR同時に摂取した成分の生体利用効率の向上が期待でき、健康食品の付加価値が…

『バイオペリン（R）』は、黒胡椒の果実に含まれる 有効成分“ピペリン”を95％で規格した粉末原料です。 わずかな配合量（1回あたり5mg）で、同時に摂取したビタミンやミネラル、 植物由来物質などの生体利用効率（バイオアベイラビリティ）の 向上が期待でき、健康食品メーカー様など多くの採用実績があります。 【特長】 ■水溶性・脂溶性問わず、様々な成分の生体利用効率を促進 ■GMP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サビンサジャパンコーポレーション

アルミ・アルミ合金用エッチング液『マストーバ E1』

混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています

『マストーバ E1』は、アルミ・アルミ合金用のエッチング液です。 混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています。 電子業界に使用いただいています。 【特長】 ■混酸タイプ ■臭気が少ない ■作業性に優れている ■アルミ・アルミ合金用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令：消防法　危険物第四類第1石油類 ※詳...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

防・除錆剤『アンラスト CK』

常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています

『アンラスト CK』は、簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストでの 運用が可能な防・除錆剤です。 アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能。 また、常温下、短時間の処理で運用が可能の為、作業に負担がかかりません。 【特長】 ■簡単な処理で変色防止効果を発揮 ■低コストでの運用が可能 ■アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能 ■常温下、短時間の処理で運用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

受託生産・合成

緻密なデータと豊かな創造力は、多種多彩な製品へと姿を変えます

当社の受託システムは、お客様のご要望の数だけの製品数を、少量～中量の 商業生産をも可能にし、まさしく理想的なソリューションをご提供します。 研究によって生み出される緻密なデータと豊かな創造力は、多種多彩な製品 へと姿を変えます。 お客様のご要望を満たすため創造のエネルギーを燃やし続け、机上⇒実験室 ⇒工場へと段階を経て、プロセス開発と製品化を着実に進めていきます。 【得意な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.1D』

水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液

株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。....

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M10』

浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所