• 小型通気式固体培養装置 製品画像

    小型通気式固体培養装置

    PRシンプルな構造とすぐれた操作性!微生物によるものづくり

    『小型通気式固体培養装置』は、実用規模の固体培養装置と同質の 基質通気式品温制御を採用した製品です。 産業化を想定した通気式固体培養を再現性高く行うことが可能。 また、品温制御が連続基質通風方式のため、産業化を見据えた培養実験を 小規模で再現性高く行うことが出来ます。 原料投入から洗浄までの全ての工程を一人で対応できるシンプルな 構造と優れた操作性は、高い評価を得ています。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジワラテクノアート

  • 【展示会出展】機能性ハードカプセル/医薬品・健食用の各種充填機 製品画像

    【展示会出展】機能性ハードカプセル/医薬品・健食用の各種充填機

    PRインターフェックス出展!腸溶性ハードカプセルをはじめ、医薬品や健康食品…

    この度、ロンザは東京ビッグサイトで行われる「インターフェックス ジャパン」に出展いたします。 【展示会情報】 展示会名:インターフェックス 開催日程:2024年6月26日(水) ~ 2024年6月28日(金) 開催時間:10:00~17:00 場所:東京ビッグサイト 当社では、各種医薬品用カプセル、革新的な機能性カプセル、各種充填機を出展予定です。 ご来場の際は、ぜひ弊社ブースへもお立ち寄りくだ...

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    メーカー・取り扱い企業: ロンザ株式会社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220 製品画像

    高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

    必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…

    素材 アルミ合金 装置サイズ(WxDxH) 370x210x120 mm 装置重量 約10kg 加熱プレートサイズ(WxD) 220mmx155mm 有効対象物サイズ(WxDxH) 210mmx150mm 最大到達温度 250℃ 加熱方式 カート...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300

    300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …

    【仕様(抜粋)】 ■装置サイズ(WxDxH):550mm×690mm×830mm ■装置重量:約105kg ■有効対象物サイズ(WxDxH):300mm×300mm×50mm ■最大到達温度:450℃ ■加熱方式:クロス配列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【新型超音波切断装置】超音波カッティング装置『CSX501』 製品画像

    【新型超音波切断装置】超音波カッティング装置『CSX501』

    高速切断を実現可能とする両端支持機構を備えた超音波スピンドルを搭載し、…

    【仕様】 ■対応ワークサイズ:6、8インチ(共用) ■ブレード刃高:最大12mm (切断上限 10mm) ■洗浄方式:2流体JET+高圧JET ■搬送機構:自社製搬送機構 ■装置仕様:フルオート ■オプション:インラインドレス、プリカット機能、ブレードツルアー ■常時破損検知機能搭載 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ウォーキングビーム搬送式 加熱炉・硬化炉 製品画像

    ウォーキングビーム搬送式 加熱炉・硬化炉

    加熱工程の自動化に貢献!昇温時間が短く、プロファイル作成可能な加熱法で…

    【仕様】 ■装置構成:加熱炉+炉体内搬送 ■対応温度:60℃~350℃ ※温度プロファイル作成可 350℃以上は要検討 ■ステージ数:2~10程度 ※2列式対応可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • セキュリティシステム 『VIRDI AC-1000』 製品画像

    セキュリティシステム 『VIRDI AC-1000』

    カード・パスワードにより認証できる!コンパクトなローコストカードターミ…

    8MB ■音声/音量:ボリュームコントロール(マルチ言語対応) ■ユーザー登録数:15,000ユーザー ■ログ保存件数:17,000ログ ■カードの種類:Felica・MIFARE(AC-1000SF)、MIFARE(AC-1000SA) ■通信:TCP/IP、Wiegand IN/OUT、RS232C、RS485 ■認証速度:1sec以内(1認証時) ■使用環境:温度-10℃~...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • セキュリティシステム 『VIRDI AC-2200』 製品画像

    セキュリティシステム 『VIRDI AC-2200』

    入退室管理や、勤怠管理、来場者管理に!認証画像記録用カメラ搭載のセキュ…

    A(640×480) ■指紋センサー:光学式 500dpi ■音声/音 量:ボリュームコントロール(マルチ言語対応) ■ユーザー登録数:1,000ユーザー/1,000指紋 ■ログ保存件数:100,000ログ/10,000画像 ■カードの種類:FeliCa /MIFARE ■通信:TCP/IP、Wiegand IN/OUT、RS485、Bluetooth ■認識速度:1sec 以...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 多機能操作スイッチ DIPTRONICS製  製品画像

    多機能操作スイッチ DIPTRONICS製 

    携帯電話や通信機器などの操作用スイッチとして使用されています。

    インナップ】 ○7mm角ダブルアクション&レバー操作タイプ ○プッシュ&レバー操作タイプ ○8ポジションエンコーダ ○プッシュ&レバー操作タイプスイッチ ○7mm角多方向操作スイッチ ○10mm角多方向操作スイッチ ○16mm円形ロタリーエンコーダ ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • FMSP315A-U 製品画像

    FMSP315A-U

    基板アンテナで円偏波アンテナを実現しました。

    小型高利得です。 寸法:36×36×0.4mm 質量:約1g以下 最大利得:-1.04dBi 標準品はケーブル長:10cm コネクタ:U.FL-LP-066...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • セキュリティシステム『VIRDI AC-7000』 製品画像

    セキュリティシステム『VIRDI AC-7000』

    Felica/MIFARE対応。顔、指紋同時認証でハイセキュリティを実…

    顏・指紋・ICカード・パスワード認証のセキュリティシステムです。 Felica/MIFARE対応。顔、指紋同時認証でハイセキュリティを実現。 IDは250,000ユーザー、25,000指紋、10,000もの顔を登録できます。 また、モニターには5.0インチTFTカラータッチパネルを採用し、 電気錠制御機能とこじ開け防止の警告音機能搭載となっております。 【特長】 ■顔感知・...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200

    金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…

    能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒10℃の超スピード昇温、さらに水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度650℃対応 ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    『RSS-110-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    『RSS-210-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210

    フラックスなどによりコンタミが多く発生してもメンテナンスが容易なモデル…

    『RVS-210』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S

    対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…

    『RSS-3×210-S』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や、「ギ酸還元...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざま試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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