• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • 『OPIE’16』に出展致します! 製品画像

    『OPIE’16』に出展致します!

    『OPIE’16』inパシフィコ横浜 出展決定!

    プテックスは、 2016年5月18日(水)~20日(金)に開催されます、 『レンズ設計・製造展』に出展致します! <日時及び場所> 日時 : 2016年5月18日(水)~20日(金) 10:00~17:00 場所 : パシフィコ横浜(横浜 アネックスホール) ブース番号:J-31 <同日開催の展示会・セミナー> 〇レーザーEXPO 〇レンズ設計・製造展 〇赤外・紫外...

    メーカー・取り扱い企業: CBCオプテックス株式会社

  • 【金属膜】広範囲で安定した透過/反射率を達成! 製品画像

    【金属膜】広範囲で安定した透過/反射率を達成!

    可視98%以上!紫外も85%以上!広範囲で高反射率を保つ高品質金属膜完…

    25~30%(透過/反射)    …広範囲での安定した透過率・反射率達成!  → 光通信用 等 4)インコーネル+誘電体膜(ハイブリッド型)NDフィルター   *可視域 反射2%、透過率10%    …広範囲で安定した透過率・反射率達成!  → カメラ用フィルター 等 5)Al紫外用ミラー   *200~350nm、反射率85%以上    …紫外域での高反射率を達成! ...

    メーカー・取り扱い企業: CBCオプテックス株式会社

  • 『ASTEC2014』に出展致します! 製品画像

    『ASTEC2014』に出展致します!

    『ASTEC2014』in東京ビッグサイト へ出展決定!撥水コート等を…

    年1月29日(水)~31日(金) 時刻:10:00~17:00 場所:東京ビッグサイト 東展示棟3~6ホール・会議棟   [東展示棟/会議棟]    〒135-0063 東京都江東区有明3-10-1/有明3-11-1 小間番号:4Q-13 (大田区ブース内の1区画) 【ASTEC2014 TOPページ】   http://www.astecexpo.jp/ 【ASTEC20...

    メーカー・取り扱い企業: CBCオプテックス株式会社

  • あらゆる波長帯・用途向け&高耐力「反射防止膜」ラインナップ 製品画像

    あらゆる波長帯・用途向け&高耐力「反射防止膜」ラインナップ

    特定波長の透過率99.5%のレーザー用、波長帯域別など反射防止膜の取揃…

    耐力評価試験を実施したタイプ。  ・レーザー溶接やレーザーメスに最適です。 【「光学薄膜フェア2014」出展のご案内】  会期:2014年11月18日(火)~11月20日(木)  時間:10:00~17:00  場所:科学技術館(東京 北の丸公園内) ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: CBCオプテックス株式会社

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