化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

オーダー製作可能！ドラフトチャンバー『オールステンレスタイプ』

PR低コスト・短納期にも対応！　外装・内装ともに全てステンレス製で、優れた…

『オールステンレスタイプ/DF-AS型』は、外装・内装ともに 全てステンレス製（SUS304）のドラフトチャンバーです。 オールステンレスの為耐久性に優れ、 有機溶剤を使用する実験などに適しています。 開発、設計、製作、組立、現地据付・工事までのすべてを自社で行うため、 他社より低コストでオールステンレスのドラフトチャンバーの導入が可能です。 設置場所に合わせて自由に製作でき、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社多田製作所

【80K～】吹付低温装置Cryostream800Compact

キャピラリーサンプルに最適化された吹付低温装置！

【主な特徴】 ■温度範囲：80～400K（Cryostream 800 Compact Plusの場合80～500K） ■0.1Kの優れた温度安定性 ■およそ20分で100Kに到達 ■60Lの液体窒素で最長4日間の連続運転 ■優れたメンテナンス性 ■さまざまなX線システムに対応 【主な仕様】 ■温度範囲：80～400K（Cryostream 800 P...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【28K～300K・窒素＆ヘリウム】吹付低温装置N-Helix

ヘリウムガスおよび窒素ガスのデュアルタイプX線回折用吹付低温装置！

【主な特徴】 ■温度範囲：28～300K ■0.3Kの優れた温度安定性 ■およそ45分で100Kに到達 ■およそ75分で30Kに到達 ■ヘリウムガスおよび窒素ガスのデュアルタイプ 【主な仕様】 ■温度範囲：28～300K ■温度安定性：0.3K ■ヘリウムガス流量：7.5L...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【80K～500K・窒素ガス】吹付低温装置Cobra

液体窒素不使用、窒素ガスタイプのX線回折用吹付低温装置！

【主な特徴】 ■温度範囲：80～400K（Cobra Plusの場合80～500K） ■0.1Kの優れた温度安定性 ■およそ40分で100Kに到達 ■さまざまなX線システムに対応 【主な仕様】 ■温度範囲：80～400K（Cobra Plusの場合80～500K） ■温度安定性：0.1K ■冷却ガス流量：5L/分または...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社