• 高周波溶着機 電動シリンダー仕様「PLASEST-05E」 製品画像

    高周波溶着機 電動シリンダー仕様「PLASEST-05E」

    PR電動シリンダー搭載で「品質向上・数値管理」 簡単操作で高い生産性を実現…

    「PLASEST-05E型」の稼働に必要なものは200V電源のみで、コンプレッサは不要です。 また、溶着後の厚み・加圧力と高周波条件を数値による設定管理を行う事で出来きます。 加工品の品質向上・安定した製品を生産できる高周波溶着機です。 タッチパネルに条件を保存することにより再現性の高い加工が可能。 電動シリンダーを採用により、下降速度、プレス間隔、加圧力、仕上げ厚みを制御可能。 特...

    メーカー・取り扱い企業: 山本ビニター株式会社

  • 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • UVオゾン洗浄改質装置 UVS1101N レンタル 製品画像

    UVオゾン洗浄改質装置 UVS1101N レンタル

    株式会社リブテラステクノロジーズでは、UVオゾン洗浄改質装置ほか様々な…

    型式:UVS1101N 使用ランプ:低圧水銀ランプ ランプワット数:110W ランプサイズ:160×160mm 有効照射エリア:100×100mm 照射距離:10~100mm(10mmピッチ) 試料台サイズ:230×190mm 外形寸法:照射器 W300×D330×H355mm 電源  W185×D434×H150mm ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社リブテラステクノロジーズ

  • UVオゾン洗浄改質装置 UVS401Y レンタル 製品画像

    UVオゾン洗浄改質装置 UVS401Y レンタル

    株式会社リブテラステクノロジーズでは、UVオゾン洗浄改質装置ほか様々な…

    ンプワット数:40W ランプサイズ:50×50mm 外形寸法:W200×D298×H265mm 照射距離:10~50mm(10mmピッチ) 有効照射エリア:50×50mm 試料台サイズ:100×100mm 重量:約5kg 入力電圧:AC100V 安全装置:扉を開くとランプ自動消灯/ランプ切れ検知/オゾン排気ファン付属 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社リブテラステクノロジーズ

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