• ラボ用ポータブル粉砕機『LAB MILL II』 ※水洗い可能! 製品画像

    ラボ用ポータブル粉砕機『LAB MILL II』 ※水洗い可能!

    PR錠剤、穀物、薬草類を簡単操作でハイパワー粉砕!容器洗浄可能でコンタミも…

    『LAB MILL II』は回転数20,000rpm、出力235Wのハイパワーで錠剤、穀物、薬草類を極めて短時間で細かい粒の揃った試料を作成いたします。 別売オプションのディスポベースをご利用いただくことで、錠剤粉砕等コンタミを避けなければならない試料に対し、 一試料ごとに粉砕容器を変えられるディスポ容器を使用することができ、残留物の心配が減ります。 また、雑菌フリーが要求される試料用に...

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    メーカー・取り扱い企業: 大阪ケミカル株式会社

  • 【省人化に貢献】麺帯外観検査装置 既存ラインに後付け可能! 製品画像

    【省人化に貢献】麺帯外観検査装置 既存ラインに後付け可能!

    PRラインカメラ表裏面検査仕様!麺帯の表面異物を自動外観検査します

    『麺帯外観検査装置』は、麺帯の微妙な変化に照明の明るさを自動で 変化させ、検査基準のコントラストに合わせる事が出来る為、誤検知を 減らす事が可能な検査装置です。 NG箇所をスクロールマップで表示している為、NG箇所の発生場所が一目瞭然。 検査中にNG箇所の画像のみを表示することができます。 【特長】 ■粉塵対策(カメラ:BOX収納、照明:エアーブロー付き) ■NG箇所をスクロールマップで表示...

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    メーカー・取り扱い企業: 藤田グループ

  • 真空対応5nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応5nmフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

    光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』ま...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応10nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応10nmフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により10nm…

    ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm~100mmまでラインアップ。 ...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置) 製品画像

    1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置)

    リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm

    光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせくだ...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動…

    ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能(0.1μm or 0.05μm)の再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm~10...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応1nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応1nmフィードバックステージシステム

    リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm…

    光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までライ...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

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