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    インライン成分分析セミナー無料ご招待【6/19・20開催】

    PRなぜ、インライン分析がいま重要なのか?人手不足や労働時間規制に対応する…

    無料オンラインセミナーのご招待です。 フォスのインライン成分分析装置について深掘りし、 製造プロセスの最適化と生産性の向上にどのように寄与するかをご紹介。 技術トレンドや、各業界でお使い頂けるアプリケーションを中心とした活用事例や応用例も紹介し、 人手不足や労働時間規制に対応するための製造プロセス改善のヒントを得られます。 乳業や食肉、飼料、穀物分野などの担当者の方に特におススメのセ...

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    メーカー・取り扱い企業: フォス・ジャパン株式会社

  • 乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈! 製品画像

    乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈!

    PR不等速2軸に各々配列の撹拌羽根で、付着性が高い対象物も効率よく混練・造…

     新日南『混練・造粒機』は、2500台以上の実績がある「ダウミキサー」ノウハウをもとに、製品化しました。    混練機『ダウミキサーPX型』は、回転速度が異なる2軸(不等速2軸)にらせん状配列の1条/2条巻の多様なパドル構成(複数特許取得)で、セルフクリーニング効果が常に作用して付着性が高い対象物でも効率よい混練効果と圧密効果が得られます。また、この作用で等速2軸式では避けられない、繰返し応力...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社新日南 京浜事業所

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    リニアエンコーダ内蔵 高分解能位置決め装置

    【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

    [新型フィードバックステージコントローラの特長] 従来品との互換性を残しつつ、 ・通信コマンド数の増加 ・ティーチング機能追加 ・USBインターフェース追加 ・パラメータ数増加 などの追加により。多機能になりフィードバックステージの状態把握や細かなパラメータを設定することができます。 [高分解能位置決め装置の特長] フィードバックステージと新型フィードバックステージコントローラ...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応5nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応5nmフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

    光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』ま...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応10nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応10nmフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により10nm…

    ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm~100mmまでラインアップ。 ...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置) 製品画像

    1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置)

    リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm

    光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせくだ...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動…

    ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能(0.1μm or 0.05μm)の再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm~10...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応1nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応1nmフィードバックステージシステム

    リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm…

    光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までライ...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

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