除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

ナノサイズゼオライト　Ｚｅｏａｌ4A

４Ａ　親水性

型ゼオライト) 代表的機能：低相対圧での吸湿、イオン交換 構造コード：LTA 単位胞組成：{Na12［Al12Si12O48］・27H2O}8 細孔径:４Å 一次粒子径：50nm~・300nm~ 製品形態 ：粉体、樹脂混錬ペレット、スラリー ・SiとAlが同数配位した組成を有する親水性の強い代表的なゼオライトです。 ・気体や液体の脱水材の他、イオン担持による抗菌など、多く...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社中村超硬