除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

品質向上・装置トラブル防止に！鉄粉捕捉装置『マグトラップ』

PRフラット、チューブ、棒など様々なタイプをご用意！頑丈構造＆高耐久性の鉄…

『マグトラップ』は、パイプライン内液中の鉄、ニッケル、磁化された SUS400シリーズを強力なレアアース磁石(希土類磁石)で捕捉する装置です。 品質向上、PL法対策、装置トラブル防止、外部購入原料チェック、 捕捉金属による故障原因の早期発見等に広く利用されいます。 また当社では、フラットプレートタイプの「MODEL 115」をはじめ、 チューブタイプの「MODEL 135」など、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アキュレックス 本社、大阪営業所

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

ード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ド...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

カソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２ ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

x 最大４源 ・プロセス制御：手動、又は自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル成膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ド...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

グカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２ ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社