バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…

『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

【食品製造業の環境改善】食液用スプレーステーション

PR食品用コーティング剤の飛散や周囲の汚れを防止。ダクト工事不要で設置でき…

チョコレート、離型油、バター、卵、フードカラーなど、 食品用コーティング剤のオーバーミストで、 厨房が霧がかったようになっていませんか？ アネスト岩田では、強力な吸引力でオーバーミストの飛散防止に貢献する 『食液スプレーステーション』を提供しています。 食品向けのスプレー塗布における「床・周辺機器への付着」「視界の悪化」などを防止。 清掃の手間削減や作業環境の改善に貢献します。...

メーカー・取り扱い企業： アネスト岩田株式会社

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』ま...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z

【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…

光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路に...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

リニアエンコーダ内蔵　高分解能位置決め装置

【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

○1nm分解能位置決め装置 　分解能：1nm（内蔵エンコーダの読取値に対して） 　最大移動速度：5mm/s（FC-911コントローラ使用時） 　可動範囲：20mm～50mm 　 ○10nm分解能位置決め装置 　分解能：10nm（内蔵エンコーダの読取値に対して） 　最大移動速度：10mm/...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

1nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm

■ステージ 最小分解能：1nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：5mm/sec（UPシリーズ） ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：1nm 最大動作速度設定値：6mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます） 制御インターフェース：ジョグコン...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社