除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

真空対応1nmフィードバックステージFS-1020UPX(V)

【真空で使用可能】1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置…

5相ステッピングモータ、カップリング、ボールねじ、 　リニアエンコーダを内蔵していながら薄型で軽量な設計を実現 ○フルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能 ○テーブルサイズ：60mm×60mm ○テーブル移動量：20mm ○対応真空度：10-４Pa ○耐荷重：49N ○最小分解能：1nm ○最大移動速度：２mm/sec ○対応コントローラ：FC-911 ●...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

1nmフィードバックステージ FS-1020UPX / XY

【精密位置決め装置】1nmの高分解能はそのままに、移動速度が早くなりま…

最小分解能：1nm 最大移動速度：5mm/sec（FC-911使用時） ストローク：20mm テーブルサイズ：□60mm 内蔵スケール：クオーツガラス 対応コントローラ：FC-911...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応5nmフィードバックステージ　20mm動作

真空中で使える　リニアエンコーダによる5nm分解能の高性能位置決めステ…

○5相ステッピングモータ、カップリング、ボールねじ、 　リニアスケールを内蔵していながら薄型で軽量な設計を実現 ○フルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能 ○テーブルサイズ：60mm×60mm ○テーブル移動量：20mm ○繰返し位置決め精度：±10nm ○対応真空度：10^-４Pa ○最小分解能：5nm ○最大移動速度：２mm/sec ○対応コントローラ：FC...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージ　20mm動作

【真空中で使用可能】10nm分解能で動作するリニアエンコーダ内蔵の高性…

5相ステッピングモータ、カップリング、ボールねじ、 　リニアエンコーダを内蔵していながら薄型で軽量な設計を実現 ○フルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能 ○テーブルサイズ：60mm×60mm ○テーブル移動量：20mm ○繰返し位置決め精度：±20nm ○対応真空度：10^-４Pa ○最小分解能：10nm ○最大移動速度：２mm/sec ○対応コントローラ：F...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社