PFAS分析に貢献！超高感度分析用超純水装置【デモ機対応可能】

PRPFAS分析にも、超高感度TQ ICPMSにも対応しているため、高感度…

今使っている超純水装置ではPFAS分析に使えない！ またPFAS分析用の超純水を購入して使うのはコストがかかるし、面倒だ！ こんな悩みをお持ちの分析者の方はいませんか？ エルガ・ラボウォーターの『PURELAB Chorus 1 Analytical Research』ならPFAS分析にそのまま使えます。 同時にTQ ICPMSでの超微量元素分析にもそのまま使えます！ 【LCMSMSを用いた超...

メーカー・取り扱い企業： ヴェオリア・ジェネッツ株式会社 エルガ・ラボウォーター事業部

LNPの製剤開発からGMP製造までをサポートする多彩なツール

PR製剤条件のスクリーニングからスケールアップ、GMP製造までをシームレス…

弊社のLNPツールは、合成から特性解析までにかかる様々な手間と時間を軽減し、製剤化を加速化します。 【LNP合成】 ・Sunシリーズ：処方・製造条件スクリーニングからスケールアップ、GMP対応製造まで、同じポンプとマイクロ流路チップを使用してシームレスに実行・移行可能です。 　・Sunscreen：スクリーニングのために開発された装置。96種類の条件検討を完全自動で実行。 　・Sunshine：...

メーカー・取り扱い企業： Unchained Labs株式会社

G6乾燥機

9分割制御方式のため、基板上の温度管理を均一にできます

『G6乾燥機』は、LCD基板上に印刷された塗膜を基板裏面(反塗布面側) により加熱することで、ガラス基板を加熱乾燥させる製品です。 乾燥時に起きる、ピンムラ対策として、Φ1mmのワイヤーで 基板受け渡しを行います。 また、ワイヤー位置は、ステッピングモータを使用(8ユニット)パターン外 の位置に設定を行うことで、パターン内の乾燥ムラを防止します。 【仕様】 ■温度性能：室...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社IPC

多段乾燥機

加熱された基板を冷却します

『多段乾燥機』は、LCD基板上に印刷された塗膜を基板裏面(反塗布面側) により加熱することで、ガラス基板を加熱乾燥させる製品です。 冷却バッファー基盤供給と搬出を行うローダー・アンローダー移載用 ロボットにより構成されています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【仕様】 ■温度性能：室温～150度(ガラス表面温度) ■温度精度：表面温度±5度以内 ■方式：マ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社IPC

4段乾燥炉チャンバータイプ

チャンバー引き出しタイプにつきメンテナンスが容易

『4段乾燥炉チャンバータイプ』は、FPD基板上に印刷された塗膜を 基盤表面に(反塗布面側)より、加熱することでガラス基板を加熱 乾燥させる製品です。 基盤受渡しはピン昇降を使用、サーボモーター制御で3段階の 高さ調整が可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【仕様】 ■温度性能：室温〜150度(ガラス表面温度) ​■温度精度：表面温度±3度以内 ■方式...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社IPC