除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

非接触型ディスペンサー dragonfly discovery

PR高い汎用性、高い粘性も問題なし ポジティブディスプレイスメント式非接…

dragonfly discoveryは、ポジティブディスプレイスメント方式とディスポーザブルシリンジの両方を採用した新しい非接触型ディスペンサーです。 汎用性の高さ、使いやすいソフトウェアで、１台で様々なアッセイ・研究に対応します。 ●ポジティブディスプレイスメント方式 ピストンが液体を押し出す方式です。粘性・表面張力など様々な溶液に対し、液体ごとのクラス設定なしで正確な分注が行えます...

メーカー・取り扱い企業： SPT Labtech Japan株式会社

硫化スズナノシート（ブラック）

ガスセンサー・太陽電池などに使用可能！高配向性と低抵抗の特長を持ってい…

『硫化スズナノシート』は、P型半導体で2インチサイズの基板上に 製作することができ、高配向性と低抵抗の特長を持っています。 硫化スズ（SnS）は希少金属や有害元素を含んでおらず、硫化スズを 構成する元素も自然界に豊富に存在することから、人体や環境に 配慮した材料。 結晶色はブラックで、トランジスタ・二次電池負極材などの用途に 使用できます。 【特長】 ■P型半導体で2イ...

メーカー・取り扱い企業： カルコジェニック株式会社

【資料】SnS極薄膜成膜製作事例

膜厚別にグラフや写真を掲載！それぞれの抵抗率もご紹介しております

当資料では、SnS極薄膜成膜（ソーダガラス基板・50mm角）を製作した 事例をご紹介しています。 145nmをはじめ、88nm、51nm、37nm、30nmの各膜厚のグラフや 写真を掲載。 それぞれの抵抗率もご紹介しておりますので、ぜひダウンロードして ご覧ください。 【掲載事例】 (1)膜厚145nm (2)膜厚88nm (3)膜厚51nm (4)膜厚37nm ...

メーカー・取り扱い企業： カルコジェニック株式会社