サンプル保存用チューブ『二次元コード付きチューブ』

PRサンプル管理業務のデジタル化！業務効率化とトレーサビリティ構築に便利な…

二次元コード付きチューブは、チューブ底面に二次元コード（2Dコード）をもつサンプル保存用チューブです。 当社のThermo Scientific Matrix 2Dチューブは、摩擦や衝撃によるコード脱落や破損に強い2Dコードを持ちます。全てのコードに対して可読性と重複がないことを確認しています。気密性に優れたガスケットと一体成形のスクリューキャップにより、サンプルの輸送や超低温下での長期保管から...

メーカー・取り扱い企業： サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

『エガー社製　スラリーポンプ』

紙パルプやゴムなどの高粘度流体も安定移送。お客様の仕様に基づき一台ごと…

当社は、スイス・エガー社の『スラリーポンプ』を多数取り扱っています。 高粘度の流体や、ガス・固形物を多量に含む流体など、 様々な流体の安定移送が可能な高性能の製品を多数ラインアップしており、 流体の種類や性質、用途などに合わせてお選びいただけます。 【エガー社製品の特長】 ■お客様の仕様に基づき、一台ごとに個別に製造 ■エガー社の技術者による、費用対効果の高いご提案が可能 ■...

メーカー・取り扱い企業： 三國機械工業株式会社

『鏡面研磨技術』技術紹介

単結晶から金属・セラミック・樹脂までナノレベルで仕上げる表面仕上げにて…

株式会社クリスタル光学は、鏡面研磨技術を保有しております。 単結晶から金属・セラミック・樹脂まで、さまざまな材料をナノ レベルで仕上げる表面仕上げにて対応いたします。 これまで多種多様な材料を仕上げできた豊富な実績の元、自信を持って ご提供いたしますので、お気軽にご相談下さい。 【特長】 ■ナノレベルの表面仕上げ ■さまざまな最良に対応 ■材料実績が豊富 ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリスタル光学

0526　Sic微粉のブリッジ対策

お客様のご希望で先ずブローディスクミニとブローディスクの現物をお貸出し…

精密部品メーカー様でご使用の例で、Sic粉末がホッパー下部で ブリッジするため、お問い合わせいただきました。 φ600ホッパーなら、サイズの小さいブローディスクミニでなく ブローディスクをご採用いただくケースが多くあります。 ただ、ブローディスクの場合はミニに比べエアー量はかなり多くなります。 今回エアー量をできるだけ少なくしたいとのご希望がありましたので、 ブローディスクミニ...

メーカー・取り扱い企業： ミナギ株式会社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社