• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • まるごと洗える撹拌機 ジェット式撹拌機AJITER×水圧モータ 製品画像

    まるごと洗える撹拌機 ジェット式撹拌機AJITER×水圧モータ

    PRいつも清潔 まるごと洗える撹拌機 オイルやグリースは不使用

    水で撹拌機を動かすため設置環境には電気は不要。 またモータ・撹拌機本体はグリースやオイル等一切使用していません。 撹拌機まるごと水洗い可能でいつでも清潔です。 水産・食品工場等の油分を嫌うシチュエーションをはじめ、 危険場所や漏電の危険がある環境下等でも 安心してご使用いただけます。...【仕様】 ■型式:RJ02-ADS ■回転数:約350~1200rpm ■接液材質:(軸)SUS304/(翼)...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社島崎エンジニアリング 本社

  • サブミクロンフィードバックステージコントローラ FC-111 製品画像

    サブミクロンフィードバックステージコントローラ FC-111

    100nm分解能で位置決め!リニアエンコーダによる位置フィードバックで…

    サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて100nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 そのため、再現性が必要な精密検査や研究等で使用されています。 外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • ナノメートル位置決め装置 [ポジショニングEXPO出展] 製品画像

    ナノメートル位置決め装置 [ポジショニングEXPO出展]

    検査効率向上に!リニアエンコーダ内蔵で優れた再現性があるナノメートル分…

    独自開発したリニアエンコーダを内蔵したステージとコントローラで構成される装置です。 ステージのエンコーダの読み取り値は逓倍処理後に1nm~100nmの分解能があります。 可動域は20mm~300mm(分解能によりラインナップが異なります。) コントローラはフィードバック回路とモータードライバを搭載しておりステージのフィードバック制御が行えます。 各種通信インターフェースを搭載しており、PC...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

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