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17件 - メーカー・取り扱い企業
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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-800シリーズ
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…
わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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最高使用温度 400℃対応の高性能メンブレンガスフィルター
マイクロファイバー(SUS316Lメッシュで支持) [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1900
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガ…
121℃ [最大使用圧力] 20.7MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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特殊ガス用途に開発された静電容量方式の圧力センサ
デッドスペースが1.8mLと小さくパージが容易に行えます。 接ガス部はSUS316LのVAR材を0.18Raの電解研磨処理しており、全品ヘリウムリークテストを行っています。 スライド式カバーになっておりゼロ、スパンの調整が容易に行えます。 わずかなダイヤフラムの変化の静電容量を検出し独自のチャージバランス原理を使用したカスタムICによ...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサ
プションで多様なチューブ内径と面シール継手が用意されています。 堅牢な構造で配管のねじれ、溶接時の熱衝撃など組み付け時のトラブルを減少させます。 また85℃までのベーキング処理が可能です。全品ヘリウムリークテストを実施しています。...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-200シリーズ
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…
わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-100シリーズ
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…
わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1300
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガ…
150℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1100
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガ…
150℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-400シリーズ
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…
わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-300シリーズ
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…
わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasPro PTFE ガスフィルター TEM-500シリーズ
あらゆるグレードの半導体プロセスガスとCDAに。ろ過精度0.003ミク…
わせください [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1400
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガ…
150℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1200
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガ…
150℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1800
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガ…
121℃ [最大使用圧力] 5.16MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルター TEM-1500
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガ…
150℃ [最大使用圧力] 1.72MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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GasProオールフッ素樹脂ガスフィルターTEM-900シリーズ
半導体ガスフィルター用、ろ過精度0.003ミクロンの高性能インラインガ…
121℃ [最大使用圧力] 20.7MPa [クリーンルーム製造] クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業 [100%ヘリウムリークテスト] <1×10 -9 atm cc/sec ◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇...
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