- 製品・サービス
6件 - メーカー・取り扱い企業
企業
292件 - カタログ
3361件
-
-
PR様々な粉体を液体中に分散・溶解が可能! ダマや溶け残りなし・短時間処理…
粉体の液体中への分散・溶解というと、タンク内の大型撹拌機で攪拌(撹拌)する、もしくはハンドミキサーで小容量の攪拌(撹拌)を何回も繰り返す、というのが一般的かと思います。ただ、これらの方法ではダマや粉体の溶け残り、処理時間が遅い、作業者に負担がかかるなど、お悩みはありませんか? 弊社の粉体溶解機を使用すれば粉体投入口が腰の位置にあるため、作業者の負担が軽減され効率的な作業が可能です。また、短時間で...
メーカー・取り扱い企業: 関西乳機株式会社
-
-
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Mode...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
【主仕様】 ・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Mode...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
0ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
- 表示件数
- 45件
- < 前へ
- 1
- 次へ >
※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。