TP-40020NPS　高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置

従来別置きであった各ユニットをワンパッケージ化し、コンパクトで手軽なシ…

日本電子株式会社 TP-40020NPS　高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置は、超高温・高純度・高化学反応場のRF熱プラズマを利用し、ナノ粒子の合成や微粒子の球状化・改質など様々な材料開発が行える研究開発装置です。 約１万度の熱プラズマ中に連続的に原料（粉体/ガス/液体）を供給し、蒸発/溶融/化学反応等のプラズマプロセッシングを行います。 〇特長 ・アルゴンが主体...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

ースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせくださ...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載す...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

TP series 高周波誘導熱プラズマ装置

無電極のため、原料成分のまま蒸発または溶融することができます。

的プロセスにより、球状化、ナノ粒子合成や厚膜合成が行えます。 〇特長 ・沸点の異なる異種原料でも、フラッシュ蒸発可能 ・高純度の材料合成が可能 ・酸化 / 還元 / 窒化 / 炭化などの化学反応や改質が可能 ・原料を十分に加熱・反応させることが可能 ※詳細はお気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社