• NEWマイクロミックス<真空加熱(冷却)式>【※試せます】 製品画像

    NEWマイクロミックス<真空加熱(冷却)式>【※試せます】

    PRトリプル回転機構を採用!目的に応じたオプション製作も可能で、テスト対応…

    『NEWマイクロミックス』は、臼の回転とは逆方向に公転する杵と 自転する杵先により、効率の良い撹拌、混合、すり潰しが可能な 真空加熱(冷却)式の製品です。 独自の回転スクレーバーによって粉砕効率も大幅アップ。 また、真空ポンプを搭載することで、容器内を減圧した状態で 撹拌ができます。 【特長(主な機能)】 ■「トリプル回転機構」により、効率の良い攪拌・粉砕・混合が可能 ■原料を運び込みながら...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤナギヤ 東京営業本部

  • 真空(ガス置換)加熱炉 製品画像

    真空(ガス置換)加熱炉

    Max1000℃!石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能で…

    株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 水素還元雰囲気炉『lZR-1600』 製品画像

    水素還元雰囲気炉『lZR-1600』

    6打点式(ハイブリット型)!水素排気に安全性が設計されている水素還元雰…

    【仕様(抜粋)】 ■ヒーター内寸法:140mmW×140mmH×170mmD ■均熱熱処理部:60mmW×60mmH×140mmD ■温度:最高1600℃ 常用1500℃ ■真空度:×10^-4Pa(常温、空炉) ■雰囲気:真空、不活性ガス(H、N、Ar) ■ヒートエレメント:タングステンロッド ヒーター ■ヒートシールド:モリブデン ■制御:デジタルプログラムPI...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 2次元抵抗加熱蒸着装置 製品画像

    2次元抵抗加熱蒸着装置

    蒸着源はボートタイプ!基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

    抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、  又下チャンバーはCF70ポートが6式標準装備されている ■上チャンバーは電動にて上下する...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『高温ガス雰囲気炉』 製品画像

    電気炉『高温ガス雰囲気炉』

    デジタルプログラムPID制御を採用!下部から試料挿入可能な実験用炉です

    【仕様】 ■型式:IZU-HGH-2500 ■ヒーター内寸法:φ140mm × 300mmH ■均熱熱処理部:φ50mm × 100mmH ■温度:常用 1500℃ ■真空度:×10^-1Pa ■雰囲気:Ar O2 ■ヒートエレメント:SiCヒーター ■制御:デジタルプログラムPID制御 ■排気系:ロータリーポンプ ■真空計:ピラニー真空計 ■電源:20K...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型スパッタ装置 製品画像

    小型スパッタ装置

    対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置

    『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 高周波レーザーCVD装置 製品画像

    高周波レーザーCVD装置

    簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

    【仕様】 ■排気系:ロータリーポンプ(ターボポンプ御要望の場合は別途御相談下さい) ■試料ステージサイズ:20 × 40 ■試料ステージ回転機構:ステッピングモーター(回転速度可変可能) ■真空計:ピラニー真空計 ■レーザー入射装置:位置決め機構付き(X・Y・ゴニオ機構) ■チャンバー水冷機構付き ※YAGレーザーは価格には含まれておりません。 ※詳しくは外部リンクページをご覧...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • プラズマCVD装置 製品画像

    プラズマCVD装置

    漏洩マイクロ波検出用も付属!試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

    【仕様】 ■マイクロ波出力:1.5Kw ■排気:ロータリーポンプ ■導入ガス:5系統(配管加熱付き) ■温調:試料ステージ試料加熱(4系統) ■配管加熱(2系統) ■真空計:バラトロン ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『高温試料急冷試験炉』 製品画像

    電気炉『高温試料急冷試験炉』

    急冷が可能!試料サイズはφ30x60(白金ワイヤー吊り下げ式)です

    【仕様】 ■真空:10^-4Pa ■ガス導入:2系統プログラム温度調整器 ■試料サイズ:φ30 x 60(白金ワイヤー吊り下げ式) ■温度:Max1500℃(SiCヒーター) ■電源:3相200V 60A ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 酸化シリコン成膜CVD装置 製品画像

    酸化シリコン成膜CVD装置

    3インチウェハ対応!コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

    【仕様】 ■真空排気:ターボポンプ ■ヒーター:SiC MAX1200℃ ■水冷:外周蛇管 上フランジジャケット ■外寸:φ360 x 500H ■内面処理:電解研磨 ■ガスケット:金メッキ銅ガスケット ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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