クラウド型電子実験ノート（ELN）『Labstep』

PRもっと革新的に！科学者によって科学者のために構築されたプラットフォーム

『Labstep』は、すべての研究関連データとメタデータをリアルタイムで 取り込む、ユーザーフレンドリーで柔軟な電子実験ノート（ELN）です。 安全でコラボレーティブな環境における構造化データの取り込みと分析を 提供し、研究開発ラボによる知的財産の創造と保護を支援。 強力なオープンAPIにより、装置、デバイス、システムとデジタル接続し、 ライブ情報を実験記録に直接取り込むことができます。 【...

メーカー・取り扱い企業： STARLIMS Corporation 代理店 インフォコム株式会社

貸工場・研究開発施設『イノーバ大田』※入居企業募集中

PRものづくり・研究開発企業様向けの貸工場・研究開発施設【イノーバ大田】が…

「イノーバ大田」は、全国のものづくり・研究開発企業様が 「ひとつの建物」に集まることで相互のリレーションシップを誘発するマルチテナント型施設です。 製造業の事業所が集積するエリアの一つである大田区に立地し、 羽田空港や品川駅へのアクセスが良い六郷土手駅から徒歩6分圏内。 入居企業同士や近隣企業との交流・連携も生まれやすくなります。 【特長】 ■多様なニーズに応えるフレキシブ...

メーカー・取り扱い企業： 三菱商事都市開発株式会社 本社

【技術資料】湿式プロセスによるTiO2ゲル膜に対する光照射効果

薄膜形成プロセスの低温化に寄与！分解過程と結晶構造の変化について比較検…

の結合エネルギーよりも大きく なります。 また、照射による熱過程をともなわずに光子の作用のみで原子の結合を開裂 できるため、薄膜形成プロセスの低温化に寄与するものと期待できます。 本研究では、工業的に多用されているTiO2について、ゲル膜を熱処理した ときおよび、エキシマランプによるVUV光照射と熱処理を併用したときの 分解過程と結晶構造の変化について比較検討しました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

強い酸化作用を利用！照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質につい…

比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、 酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。 そこで、薄膜形成時の照射雰囲気における...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】真空紫外エキシマランプを用いたポリエチレンの表面改質

波長172nmの真空紫外光をポリエチレンシートに照射！表面の改質につい…

ち、 様々な分子内結合を効率よく光解離が可能。 このため、ランプは液晶表示パネルに使われるガラス基板の精密光洗浄などに 実用化されているのを始め、様々な応用展開が図られています。 本研究では、汎用樹脂であるが、印刷性・接着性が低いポリエチレンに、 真空紫外光を照射した際の、表面の物理･化学的変化について検討を行い ました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果お...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】真空紫外光を用いたポリマーの改質と照射雰囲気効果

真空紫外（VUV）光を用いた表面改質技術！改質効果の違いについて検討

め、非熱過程で分子の結合を 切断することが可能。 物理的表面処理として代表的なプラズマ処理等と比べ、低コストかつ表面への ダメージが少なく、表面処理ができるという特長を持ちます。 本研究では、真空紫外光をポリマーに照射し、照射に伴う表面の物理、 化学的変化と、照射中の雰囲気ガスによる改質効果の違いについて検討を 行いました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】キセノンエキシマ真空紫外光ランプの高出力化

1～2kW／m2の光照度の実現！高出力化に必要な要素技術の検討

本発表では、従来のランプより10～20倍明るい、1～2kW／m2の 光照度の実現を念頭に置いて、高出力化に必要な要素技術の検討を 行いました。 【掲載内容】 ■エキシマランプの原理と研究開発目的 ■放電方式について ■ランプの形状について ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー