• 技術情報誌 202304-01 エリプソメトリーを用いた薄膜評価 製品画像

    技術情報誌 202304-01 エリプソメトリーを用いた薄膜評価

    エリプソメトリによる、PVA膜スピンコート直後の経時変化とシリコン絶縁…

    技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品質管理等のお役に立つ分析技術の最新情報です。 【要旨】 分光エリプソメトリーは光の偏光状態の変化を測定し、光学定数(屈折率・消衰係数)や膜厚を評価する手法として知られている。2021年に導入した高速分光エリプソメトリーM-2000UIによる、PVA膜スピンコート直後の経時変化とシリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価について解析例...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東レリサーチセンター

  • 技術情報誌 202001-01 in-situ STEM 製品画像

    技術情報誌 202001-01 in-situ STEM

    技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

    【要旨】 近年、高感度ならびに低消費電力デバイスの需要が高まり、スピントロニクス分野では磁気メモリや磁気センサーなどが注目を集めている。これらのデバイスには、高い磁気抵抗効果が得られることからMTJ(magnetic tunnel junction)構造が広く用いられている。このMTJ構造は数nm程度の薄い積層膜から成り、原子レベルでの膜厚やラフネスおよび結晶性が特性を左右する。また、アニール温...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東レリサーチセンター

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