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    細胞培養液成分を最大16項目同時測定する分析装置!分析解説資料有

    PR【細胞培養液分析解説資料進呈】最大16項目を4分30秒で同時測定・分析…

    『BioProfile FLEX2』は、細胞培養液成分を最大で16項目同時分析可能な細胞培養環境自動分析装置です。 わずか4分半で代謝・増殖・分化などの培養状況を数値化でき「細胞製造プロセスの継続判断」「大量生産を見据えた培養環境づくり」「GMP対応に向けた品質管理・基準の文書化」などの効率化に貢献します。 複数の形状のサンプル容器を備え、必要な検体量は135~265μLと少量。化学物質、ガス測定...

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    メーカー・取り扱い企業: ノバ・バイオメディカル株式会社

  • 廃水処理システム「AT-BCシステム」 製品画像

    廃水処理システム「AT-BCシステム」

    PR低コストで廃水処理能力を大幅に向上可能!廃水処理設備を止めることなく増…

    【増設】 「処理施設の能力不足」や「設置場所が無く増設が困難」といった悩みを AT-BC装置を既設槽上に載せるだけで一発解決!低コストで廃水処理能力を大幅に向上させることができます。活性汚泥法と回転生物接触法の2つの処理法を進化させた廃水処理システムです。 【特長】 ■廃水を止める事無く増設が可能 ■工期は2週間程度 ■既設槽上にAT装置を載せるだけで能力が倍以上に ■設備投資費用は2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社バチルテクノコーポレーション

  • ケミカルフィルタシステム「リソガード12」 製品画像

    ケミカルフィルタシステム「リソガード12」

    ArF液浸露光など、ハイエンド半導体露光装置向けケミカルフィルタシステ…

    「リソガード12」は、ArF液浸露光を始めとするハイエンド半導体露光装置向けに開発された、酸性・塩基性・凝縮性有機ガス除去用HEPAフィルタ付高効率ケミカルフィルタシステムです。 キャビネット内にLPSフィルタまたはBSMmaxフィルタ12枚とHEPAフィルタ6枚を搭...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社

  • ケミカル汚染物除去用フィルタ「リソガードLPSフィルタ」 製品画像

    ケミカル汚染物除去用フィルタ「リソガードLPSフィルタ」

    さまざまな汚染物質からレンズを保護し、更に長寿命化したケミカルフィルタ

    」の除去性能を強化し、更なる長寿命化を実現したキャビネット収納タイプのケミカルフィルタです。 さまざまな汚染物質からウエハーやレンズが汚染されないよう保護し、寿命を最大限に保ちます。半導体製造装置はもちろん、超洗浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中の汚染物質の除去に最適です。 【特長】 ■さまざまな汚染物質の除去に使用可能 ・酸性ガス(SO2、HCl、HBr) ・塩基性...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社

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    集塵機『BOFA』シリーズ

    レーザー加工や積層造形など様々な現場で高効率な集塵が可能。小型・低騒音…

    当社では、2018年より当社グループとなったBOFA社(英国)の 小型・高性能の集塵機『BOFA』シリーズを提供しています。 BOFA社が1987年の設立以来、集塵・排煙装置メーカーとして培ってきた技術力を基に、 高効率で高品質な集塵を実現。独自の「iQシステム」により直感的な操作や フィルター状態の監視が可能です。フィルターに入る粒子を減らすことで フィルターの...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社

  • 調理用およびプロセス用スチーム 製品画像

    調理用およびプロセス用スチーム

    エネルギー伝達に使用されるユーティリティの蒸気、工程内の汚染を防ぐため…

    圧縮空気と同様に、蒸気もエネルギーを伝達するために使用されるユーティリティと考えられ、どちらも1つの装置で生成された後、施設内のさまざまな使用箇所に分配されます。 使用目的、または最終製品との接触有無により、工程内の汚染を防ぐために濾過が必要になります。 ドナルドソンでは、蒸気の濾過に適した製...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社

  • ケミカル汚染物除去フィルタ「リソガードBSMmaxフィルタ」 製品画像

    ケミカル汚染物除去フィルタ「リソガードBSMmaxフィルタ」

    さまざまな汚染物質からウエハーやレンズを保護し、寿命を最大限にするフィ…

    といった汚染物質に対して高い除去性能を発揮するキャビネット収納タイプのケミカルフィルタです。 さまざまな汚染物質からウエハーやレンズが汚染されないよう保護し、寿命を最大限に保ちます。半導体製造装置はもちろん、超清浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中の汚染物質の除去に最適です。 【特長】 ■さまざまな汚染物質の除去に使用可能 ・酸性ガス(SO2、HCl、HBr) ・塩基性...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社

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