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35件 - メーカー・取り扱い企業
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790件 - カタログ
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PRシンプルな構造とすぐれた操作性!微生物によるものづくり
『小型通気式固体培養装置』は、実用規模の固体培養装置と同質の 基質通気式品温制御を採用した製品です。 産業化を想定した通気式固体培養を再現性高く行うことが可能。 また、品温制御が連続基質通風方式のため、産業化を見据えた培養実験を 小規模で再現性高く行うことが出来ます。 原料投入から洗浄までの全ての工程を一人で対応できるシンプルな 構造と優れた操作性は、高い評価を得ています。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジワラテクノアート
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PR様々な粉体を液体中に分散・溶解が可能! ダマや溶け残りなし・短時間処理…
粉体の液体中への分散・溶解というと、タンク内の大型撹拌機で攪拌する、もしくはハンドミキサーで小容量の攪拌を何回も繰り返す、というのが一般的かと思います。ただ、これらの方法ではダマや粉体の溶け残り、処理時間が遅い、作業者に負担がかかるなど、お悩みはありませんか? 弊社の粉体溶解機を使用すれば粉体投入口が腰の位置にあるため、作業者の負担が軽減され効率的な作業が可能です。また、短時間で処理ができ、ダマ...
メーカー・取り扱い企業: 関西乳機株式会社
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複数の解析ソフトウェアを駆使した表面処理の特性予測ソリューションを提案…
材料特性など プラズマプロセス装置の解析と表面状態の特性予測をまとめて提供します! 【解析対象となる物理現象】 ・結合と活性化 ・成膜 ・スパッタや浸食 ・脱離や洗浄 など 【評価可能な表面特性例】 ・原料ガスやプラズマの入射量やエネルギー、あるいは浸食/成膜速度の評価 ・物質の原子/分子データに基づきその材料特性を評価 ・入射粒子の表面反応予測 ・処理後の表面粗さ評...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【実験できない範囲も解析が可能】表面処理の特性予測ソリューション
専門知識を持った技術者がサポート!各種解析ソフトを組み合わせる事で、表…
【その他の特長】 <解析対象となる物理現象> ■結合と活性化 ■成膜 ■スパッタや浸食 ■脱離や洗浄 など <評価可能な表面特性例> ■原料ガスやプラズマの入射量やエネルギー、あるいは浸食/成膜速度の評価 ■物質の原子/分子データに基づきその材料特性を評価 ■入射粒子の表面反応予測 ■処理後の表面粗さ評...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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シミュレーション、統計解析、機械学習技術を活用し、設備のフィールドデー…
シミュレーション技術と信頼性評価、設備保全に関する知見を組み合わせ、データ収集・可視化から分析、製品の改善や運転条件の最適化、予兆保全に関わる仕組みの構築を支援致しております。 主な対象設備としては ・各種プラント ・半...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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全体の形が未知の関数や微分ができない関数の最大値・最小値を探索的に求め…
『ベイズ最適化』とは、全体の形が未知の関数や微分ができない関数の 最大値または最小値を、関数の形を推定しながら探索的に求める手法です。 未知の評価にとても時間やコストがかかるような状況で、いかに少ない 評価回数で好適な値を探せるかがポイントです。 当資料ではこの他に「FA分野での活用事例」や「システム連携・幅広い提案」 「Pipel...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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機能安全対応でFaultTree+を用いる際に役立つ機能、及びFaul…
【セミナーの概要】 1.システムFTAと定量評価のためのFTAについて 2.安全機構(SM)の表現方法について 3.共通原因故障の表現方法について 4.カットセット分析とその情報の見方 5.故障率DB(Prediction)連携、ライブラ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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「金属の輸送特性計算」をはじめ、「ガラス転移温度を求めるシュミレーショ…
【掲載内容(抜粋)】 ■画像のセグメンテーション ■画像加工による機械部品表面の欠損検出 ■ツリーモデルでのデータ分類とモデル評価 ■パレート最適化を用いての薬品成分の改善 ■次元削減を用いての分子のクラスタリング ■相関行列やヒートマップの計算 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』
『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』
『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』
『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』
『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』
『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析
Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理
Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン
Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析
Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置
長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ
Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析
Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ(CC…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ
「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP
Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D
「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
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【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理
代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP(容量結合プラズマ…
採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社
PR
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【資料】ファースト・イン・ヒューマン試験の投与量選択戦略
「非臨床における毒性および薬理評価」や「ヒト曝露量の予測」につ…
サターラ合同会社 日本支社 -
技術資料『JIS規格「分銅」と製造工程の紹介』
JIS分銅の製造から市場供給までの流れをご紹介。JIS規格の概…
株式会社村上衡器製作所