病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露対策に！　どこでもドラフト

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフト…

C装置使用時の有機溶媒臭 ガスクロマトグラフィーの排気VOC Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露  2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露 電子顕微鏡関連でのオスミウム/グルタルアルデヒド暴露 病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社

【フィルタ(FERENA)の特徴・仕様　興研KOACH】興研

◆HEPAフィルタなみの低圧損で、ULPAフィルタなみの捕集効率を誇る

■FERENA※の特長 ◆HEPAフィルタなみの低圧損で、ULPAフィルタなみの捕集効率を誇る ◆ナノファイバーの存在比率が高い ◆フィルタとして有効なランダム構造 ◆耐水・耐油性に優れる ◆耐熱性に優れる ◆ボロンが出ない ※FERENA(フェリナ)とは、オープンクリーンシステムKOACHのプッシュフードに搭載されているフィルタです。FERENAにより、KOACHは清浄度ISO...

メーカー・取り扱い企業： 泉州機工株式会社

どこでもドラフト

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフト…

C装置使用時の有機溶媒臭 ガスクロマトグラフィーの排気VOC Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露  2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露 電子顕微鏡関連でのオスミウム/グルタルアルデヒド暴露 病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社

ガスクロマトグラフィーの排気VOC対策に！　どこでもドラフト

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフト…

C装置使用時の有機溶媒臭 ガスクロマトグラフィーの排気VOC Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露  2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露 電子顕微鏡関連でのオスミウム/グルタルアルデヒド暴露 病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社

HPLC装置使用時の有機溶媒臭対策に最適　どこでもドラフト

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフト…

C装置使用時の有機溶媒臭 ガスクロマトグラフィーの排気VOC Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露  2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露 電子顕微鏡関連でのオスミウム/グルタルアルデヒド暴露 病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社

スタンドコーチ「KOACH C 900-F」（FERENA搭載）

局所クリーンの決定版！超高性能フィルタ搭載オープンクリーンベンチ

『KOACH C 900-F』は、テーブル上の作業エリアをクリーン化したい場合に適しており、並び作業、対面作業も可能なオープンクリーンベンチです。 囲いがないにもかかわらず広い範囲の清浄空間を形成することができます。 清浄度はISO クラス1、全換気時間は105秒となっています。 【こんな方にオススメ！】 ■クリーンベンチは顕微鏡などの大きな機器が入らないから使えない ■囲われて...

メーカー・取り扱い企業： 関東化学株式会社 電子材料事業本部