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      • 半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』 製品画像

        半導体装置『BATCHSPRAY Clean Autoload』

        BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】全自動装置

        この4チャンバーシステムは、使用時点での混合化学物質を特許取得済みのリテーナーコーム処理システムと組み合わせて優れたプロセス結果を実現することを特徴としています。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzon…

      • 半導体装置『BATCHSPRAY Acid Autoload』 製品画像

        半導体装置『BATCHSPRAY Acid Autoload』

        BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】全自動装置

        この2チャンバーシステムは、優れたエッチングの均一性を提供するだけでなく、化学物質を節減します。そして、すべてのタイプのウェットエッチングプロセスに対応しています。 高い精度のタンク内における化学物…

      • 半導体装置BATCHSPRAY Solvent Autoload 製品画像

        半導体装置BATCHSPRAY Solvent Autoload

        BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】全自動装置

        この2チャンバーシステムは、優れたエッチングの均一性を提供するだけでなく、化学物質を節減します。そして、すべてのタイプのウェットエッチングプロセスに対応しています。 高い精度のタンク内における化学物…

      • BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload 製品画像

        BATCHSPRAY Acid/Solvent Autoload

        BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】

        この2チャンバーシステムは、優れたエッチングの均一性を提供するだけでなく、化学物質を節減します。そして、すべてのタイプのウェットエッチングプロセスに対応しています。 高い精度のタンク内における化学物…

      • BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload 製品画像

        BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload

        BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】

        この3チャンバーシステムは、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムを使用することで、あらゆるタイプのウェットエッチングプロセスと洗浄アプリケーションに対応しています。酸/洗浄の組み合わせにより、高…

      • 半導体装置『BATCHSPRAY Solvent』 製品画像

        半導体装置『BATCHSPRAY Solvent』

        BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】半自動装置

        当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。 【特長】 ■最大150wphのスループット ■設置面積2m2未満 ■タンクシ…

      • 半導体装置『BATCHSPRAY Acid』 製品画像

        半導体装置『BATCHSPRAY Acid』

        BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】半自動装置

        当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。 【特長】 ■最大150wphのスループット ■ばらつきが1%未満の均一性 ■…

      • Siconnex(サイコネックス) 会社案内 製品画像

        Siconnex(サイコネックス) 会社案内

        BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減

        当社は、半導体チップ製造プロセス装置の製造メーカーです。 スループット最大600wphの「BATCHSPRAY Clean Autoload」や タンクシステムによるケミカル循環方式を採用した…

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