気中ハンドヘルドパーティクルカウンタ『KC-52A』

PRタッチパネル式で多機能！多点モニタリングシステムに対応しています

『KC-52A』は、ISO 21501-4(JIS B 9921)に適合した 気中ハンドヘルドパーティクルカウンタです。 医薬品・飲料・食料品の製造工程やパッキング工程の環境管理、 半導体製造現場の環境管理、病院や医療現場の清浄度管理などに 適しています。　　　　　　　　　　　　　　 【特長】 ■粒径区分は0.3、0.5、1.0、2.0、5.0、10.0μm(6段階) ■パスワードの設定により...

メーカー・取り扱い企業： トスク株式会社(旧十慈フィールド)

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…

『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

用途例『マイクロエレクトロニクスにおけるスラリーシステム』

CMPスラリーに最適なバルブのご提案

CMPスラリーのアプリケーションには極めて厳しい仕様要求があります。GEMÜのコンポーネントはその要求を満たしながら,流量を最大化する構造を持ち,研磨性スラリーを安全に運びます。 このアプリケーションには,GEMÜよりPFA製のダイアフラムバルブ,グローブバルブ,計測器,フィッティングチューブをご提案できます。...※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

アプリケーション例『 溶剤の供給』

溶剤供給システム向けのバルブをご提案

半導体産業では,物質の溶解や洗浄のために有機溶剤が使用されています。 洗浄に用いられる溶剤は特に腐食性が強く,取り扱いが困難なため,バルブには高い耐薬品性が求められます。 GEMÜは高いKv値と耐薬品性を兼ね備えた製品群を提供致します。 製品は純度を保つため,原則としてステンレスおよびPFAで製作しています。 ...※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

アプリケーション例『 ウェットプロセス』

ケミカルリキッドのハンドリングに最適なバルブをご提案

ウェットプロセスとは生産システムの中で液体,特にケミカルリキッドを施用する工程を指し,半導体製造のコアとなる工程です。 GEMÜ製品は接液部がPTFEまたはPFAによってできており,腐食性ケミカルに影響を受けない高い耐薬品...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

アプリケーション例『集積回路製造プラントのウェットプロセス』

腐食性ケミカルに最適なバルブをご提案

GEMÜのバルブ,計測器,制御システムはウェットプロセスに使われるような腐食性ケミカルに接しても素材の溶出を起こさず,流体の純度を高いまま保持します。 GEMÜ社よりPFA製のダイアフラムバルブ,ブロックバルブ,圧力計,超音波流...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社