バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…

『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

排水処理でコスト&CO2削減 FOOMA JAPAN2024出展

PR排水処理を変えればコストもCO2も削減できる。「とくとくーぶぶぶ」は食…

メタン発酵排水処理は酸素のほとんど存在しない環境下で生育する微生物(嫌気性菌)を利用した排水処理法です。処理槽に空気を供給する曝気が不要なため、消費電力を大幅に削減することができます。また、処理に伴い排水中の汚れ(有機物)をメタンガスに変換します。発生したメタンガスは都市ガスと同じ成分であり、ボイラーや発電機の燃料として利用することで従来の燃料(化石燃料)を削減することができます。また、微生物の増...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイブル

用途例『マイクロエレクトロニクスにおけるスラリーシステム』

CMPスラリーに最適なバルブのご提案

CMPスラリーのアプリケーションには極めて厳しい仕様要求があります。GEMÜのコンポーネントはその要求を満たしながら,流量を最大化する構造を持ち,研磨性スラリーを安全に運びます。 このアプリケーションには,GEMÜよりPFA製のダイアフラムバルブ,グローブバルブ,計測器,フィッティングチューブをご提案できます。...※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

アプリケーション例『 溶剤の供給』

溶剤供給システム向けのバルブをご提案

半導体産業では,物質の溶解や洗浄のために有機溶剤が使用されています。 洗浄に用いられる溶剤は特に腐食性が強く,取り扱いが困難なため,バルブには高い耐薬品性が求められます。 GEMÜは高いKv値と耐薬品性を兼ね備えた製品群を提供致します。 製品は純度を保つため,原則としてステンレスおよびPFAで製作しています。 ...※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

アプリケーション例『 ウェットプロセス』

ケミカルリキッドのハンドリングに最適なバルブをご提案

ウェットプロセスとは生産システムの中で液体,特にケミカルリキッドを施用する工程を指し,半導体製造のコアとなる工程です。 GEMÜ製品は接液部がPTFEまたはPFAによってできており,腐食性ケミカルに影響を受けない高い耐薬品...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

アプリケーション例『集積回路製造プラントのウェットプロセス』

腐食性ケミカルに最適なバルブをご提案

GEMÜのバルブ,計測器,制御システムはウェットプロセスに使われるような腐食性ケミカルに接しても素材の溶出を起こさず,流体の純度を高いまま保持します。 GEMÜ社よりPFA製のダイアフラムバルブ,ブロックバルブ,圧力計,超音波流...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社