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PR高清浄度空間におけるオートメーションシステム
液体培地、細胞懸濁液の自動分注をISOクラス5の環境下で行うシステムです。 グローバルロボットメーカーであるストーブリ株式会社様の製薬用小型ロボットTX2-40を搭載しています。 高清浄度環境を構築するPure Q-beはW1300mmとコンパクトで、搬入経路や設置場所が狭いテナントにおける導入のハードルを下げられます。 自動化の詳細工程については、以下の関連リンクからご覧ください。 ダルトンで...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン
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細胞培養や微生物発酵の研究に!新型バイオリアクターHABITAT
PR本機一台で様々な用途に使用可能!新しいミキシング方式「カオスモード」を…
『HABITAT』は、細胞培養や微生物発酵の研究に適したバイオリアクターです。 人間工学に基づいたデザイン設計の為、バイオリアクターと蓋スタンドが 一体となり、効率的な作業が可能。それゆえラボは常に整理された状態を 保つことが望めるでしょう。 サーキュレーターと組み合わせて発酵槽として、さらにLEDライトパネルと 組み合わせてフォトバイオリアクターとしてもご使用いただけます。 ...
メーカー・取り扱い企業: IKAジャパン株式会社
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剥離された皮膜は比較的小さい!BOD、COD負荷も他のものと比較して低…
『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!
『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令:消防法 危険物第四類第1石油類 ※詳...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…
『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できる ■低発泡性 ■NBRなどの軟質ゴムにも...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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20kg缶と200kgドラムをご用意!ドライフィルムとポジレジストのレ…
『アンラスト R500』は、対象物がドライフィルムとポジレジストの レジスト剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易。 20kg缶と200kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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結晶化したシリカ系スケール除去に!青色ジェルなので拭き残しが一目で分か…
『マストーバ MIS-3b』は、シリカ系スケールの除去に使用できる 工業用洗浄剤です。 結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去します。 粘度の高いジェルタイプなので、壁面等に直接塗布することが可能です。 (用途に応じて粘度の調節可能) また、青色ジェルのため、拭き残しが一目で確認できます。 【特長】 ■結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去でき...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です
『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。....
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…
『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法:毒物 ※詳しくはPDF資...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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エナメル電線皮膜を剥離することが可能!塩素系、アミン系の溶剤を含有して…
『アンラスト EW-R』は、エナメル電線皮膜のポリエステルの剥離に適した 塗装剥離液です。 処理方法は、対象物を浸漬し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ■時間:30~120分 ※詳しくはPDF資料をご覧...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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創立以来60年間蓄積された技術と知見でニーズにお応えします
株式会社三若純薬研究所は、ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、 受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカーです。 脱脂剤、剥離剤、表面処理剤や酸系の金属処理液など、お客様の ニーズにお応えする最適な製品を提案致します。 また、受託システムでは、お客様のご要望の数だけの製品数を少量~中量 の商業生産をも可能にし、理想的なソリューションをご提供します。 【自社ブランド製...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…
『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環あるいは 直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れます。 【特長】 ■レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環 あるい...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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鉄系基材に対し、防・除錆効果あり!生分解性がよく、環境負荷が少ないです
『アンラスト TP160』は、生分解性がよく、環境負荷の少ない フォトレジスト剥離液です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加する ことにより、レジストの剥離が容易。 鉄系基材に対し、防・除錆効果があります。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易 ■鉄系基材に対...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…
『アンラスト F』は、レジスト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易。 15kg缶と180kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…
『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧...
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ドライフィルムレジスト剥離液やウレタン塗料の剥離等に使用可能!
『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶/ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~60℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【そ...
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キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…
『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度:3倍希釈~原液 ■温度:50~70℃ ■時間:2~10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...
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浸漬法、スプレー法に対応!浸透性が高いため、細部まで剥離が可能!
『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【その他...
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浸漬法、スプレー法に対応!苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度:原液処理 ■温度:50~70℃ ■時間:5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【...
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ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます
『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに!高温使用が可能の為、剥離性に優れ…
『アンラスト MP』は、浴寿命が長く経済的な塗装剥離液です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに2~5%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【その他の特長】 ■対象...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。....
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