インジェクション式レトルト殺菌装置　特長4

PRそのノズル、実は詰まっていませんか？ 標準搭載の自動洗浄機能でお手入れ…

『熱水インジェクション式レトルト殺菌装置』は、製品に直接熱水を吹き掛けない他に類の無い独特な殺菌方式の採用により、群を抜いた温度・圧力の安定性をほこります。その構造から生まれるメリットをご紹介します。 インジェクション式は、その構造からノズルの数が少なく、メンテナンス性に大変優れています。また、自動洗浄機能を標準搭載しているため、簡単にノズルの詰まりを解消することが出来る仕様となっており、ご好評...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社神垣鉄工所

協働ロボット パレタイジングシステム

PRカゴ台車への荷積みにも対応！お客様の用途に合わせ、多種多様にカスタマイ…

『協働ロボット パレタイジングシステム』は、省スペース・安全柵不要で運用可能な製品です。 ティーチングペンダント付属で操作も簡単。 また、パレット積みだけでなく、カゴ台車への荷積みにも対応しています。 その他、前後のコンベアー設置など現場環境に合わせご提案を致します。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■８パターンのパレタイジング標準パッケージ ■省スペースに設置可能 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社山善

テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタンは、現在、マイクロエレクトロニクス産業におけるプラズマエッチングガスの最大週間量であり、シリコン、二酸化ケイ素および他の薄膜村材料のエッチングに広く使用され、電子デバイスの表面洗浄、太陽電池の製造、レーザー技術などでは、アプリケーションの数も多い。...テトラフルオロメタンは、現在、マイクロエレクトロニクス産業におけるプラズマエッチングガスの最大週間量であり、シリコン、二酸化ケ...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

四フッ化ゲルマニウム　GeF4　7783-58-6　6N

四フッ化ゲルマニウム　GeF4　7783-58-6　6N

四フッ化ゲルマニウムは重要な無機化合物の一種で、半導体分野では主にドーピングとイオン注入の時に使用されます。四フッ化ゲルマニウムはエチルシランガスと組み合わせることができ、直接ガラス基板上にシリコンゲルマニウム微結晶を作成し、低ノイズ低温アンプ、整流器、発振器、およびその他の半導体デバイスの製造に使用されます；光学分野では、四フッ化ゲルマニウムは光学ガラス製造の場面で添加剤として使用され、光学ガラ...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス用のフッ素源として、2、エレクトロニクス産業（IC）におけるエッチング液および洗浄剤として、3、太陽光発電産業である。 NF3のその他の用途：パーフルオロアンモニウム塩の製造、電球の寿命と輝度を高める充填剤ガスとしての使用、鉱業やロケット技術における酸化剤としての使用など。...NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

PTFEマイクロパウダー

フッ素パインダー（ PVDF ではない物） リチウムイオン電池の全個…

1.高い化学安定性 2.広い温度範囲 3.優れた非粘着性 4.卓越した潤滑性 5.優れた電気絶縁特性...融点 :327 °C 沸点 :400 °C 比重(密度) :2.15 g/mL at 25 °C 屈折率 :1.35 貯蔵温度 :Store at -20°C 溶解性:水への溶解度: 外見 :粉 色:白い 比重:2 臭い (Odor):at 100.00?%. odo...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO