• 少量生産に好適!『卓上型上面用ラベラー』※丸ボトル用ラベラーも有 製品画像

    少量生産に好適!『卓上型上面用ラベラー』※丸ボトル用ラベラーも有

    PR貼り付け速度は最大16m/分、電気消費量は400VA!当社の2種類のラ…

    当社で取り扱っている、卓上型上面用ラベラー『MODEL ELF-20』について ご紹介いたします。 操作や型替えがとても簡単で、少量生産に好適。 ホットスタンププリンターと透明ラベルセンサーの2つの オプションがございます。 また、丸ボトル用の卓上型ラベラー「MODEL ELF-50」もご用意しております。 【MODEL ELF-20の仕様(抜粋)】 ■電源:AC100V、50/60Hz、単...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アキュレックス 本社、大阪営業所

  • そのダマ、『解砕機 ランデルミル』がほぐして解決します! 製品画像

    そのダマ、『解砕機 ランデルミル』がほぐして解決します!

    PR原料や工程で発生するダマ(凝集塊)で困っていませんか?分解・清掃が容易…

    当社のランデルミルは、回転するローターの衝撃とせん断でパンチングスクリーンの穴径以下にダマをほぐします。 工程中に発生する二次凝集した塊状物をほぐしたり、紙袋やフレコンなど原料中のダマをほぐし生産工程をスムーズに稼働させます。 粉体処理の工程、特にふるい分け、混合、乾燥、輸送、粉砕、計量等のコンディショニングに有効です。 また、やむなく人手でほぐし作業をされている場合、機械化することで人件費...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社徳寿工作所

  • 透過型電子顕微鏡 製品画像

    透過電子顕微鏡

    透過電子顕微鏡(TEM)でサンプルの微細構造がナノレベルで観察が可能…

    弊社では、高精度なTEM観察用薄片サンプル作製と高度なTEM観察技術から鮮明なサブナノオーダーの構造観察が可能です。...TEM観察 ・ナノオーダーの構造把握や格子像の観察を行います。 ・TEM画像を使用した解析・評価、EDXによる局所的元素分析を行っております。 TEM画像を用いた解析、評価 ・高分解能TEM像による結晶欠陥の解析や歪みマッピング評価を行います。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 微少領域形態観察 透過電子顕微鏡(HR-TEM) 製品画像

    微少領域形態観察 透過電子顕微鏡(HR-TEM)

    物理分析を行う装置を揃え、立会い分析も可能な受託分析サービスを行ってい…

    主な装置は「HR-TEM」「Q-poleSIMS」「μESCA」「RAMAN」など。ミクロ・ナノレベルの表面分析におけるノウハウの蓄積があり、信頼性の高いデータを短期間で提供することができます。また未知試料の分析についてもアドバイスします...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 表面分析 二次イオン質量分析(SIMS) 製品画像

    表面分析 二次イオン質量分析(SIMS)

    物理分析を行う装置を揃え、立会い分析も可能な受託分析サービスを行ってい…

    主な装置は「HR-TEM」「Q-poleSIMS」「μESCA」「RAMAN」など。ミクロ・ナノレベルの表面分析におけるノウハウの蓄積があり、信頼性の高いデータを短期間で提供することができます。また未知試料の分析についてもアドバイスします...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 表面分析 X線光電子分光分析(ESCA・XPS) 製品画像

    表面分析 X線光電子分光分析(ESCA・XPS)

    物理分析を行う装置を揃え、立会い分析も可能な受託分析サービスを行ってい…

    主な装置は「HR-TEM」「Q-poleSIMS」「μESCA」「RAMAN」など。ミクロ・ナノレベルの表面分析におけるノウハウの蓄積があり、信頼性の高いデータを短期間で提供することができます。また未知試料の分析についてもアドバイスします...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 砒素イオン注入深さ分析 製品画像

    砒素イオン注入深さ分析

    SIMSによる、シリコンへ砒素をイオン注入した分析結果を紹介。

    砒素(75As)はマトリックスであるシリコンと残留ガスである酸素あるいは 水素との複合分子(29Si30Si16O など)が干渉するため、質量分解能が 3190 必要です。 Q ポール SIMS では質量分解能が 200 程度しかなく、質量分離が困難です。 しかしシリコンと砒素の複合分子イオンを測定することによって検出下限を 2×1015 [atoms/cm3]に下げることが...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • アルミイオン注入深さ分析 製品画像

    アルミイオン注入深さ分析

    検出下限を1E16n/cm3に下げることが出来ました。SIMSによる分…

    (アルバックファイ:ADEPT-1010)によって、シリコンへアルミニウムを イオン注入したサンプルを分析した結果を紹介します。 アルミニウムの質量数はシリコンと隣接しているため Q ポール SIMS では 測定が困難ですが、測定条件を最適化することによって検出下限を 1E16n/cm3に下げることが出来ました。 【注入条件】 ■エネルギー :180keV ■ドーズ量...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

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