• 【ウェビナー開催】レジンの充填不要なメンブレンクロマトグラフィー 製品画像

    【ウェビナー開催】レジンの充填不要なメンブレンクロマトグラフィー

    PRレジンの充填不要。すぐに使用できる、Sartobind Rapid A…

    ダウンストリームプロセス精製工程を改善することで製品コストを削減することが可能であるため、ダウンストリームプロセスの生産性を向上させることに大きな関心が寄せられています。本ウェビナーでは、アフィニティー・レジンの充填が不要で、プロセス時間の短縮が実現できるSartobind Rapid Aの特長をご紹介いたします。 【セミナー概要】 ■開催日程:11月21日(木) 15時~(約20分) ■開催方...

    メーカー・取り扱い企業: ザルトリウス・ステディム・ジャパン

  • 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 【小型&軽量】UV-LED照射装置 製品画像

    【小型&軽量】UV-LED照射装置

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。上面と下面から照射が可能で、手…

    製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることで上面及び下面からUV照射が可能 ■小型かつ軽量 ■ランプの寿命は20,000時間を...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • RFIDリーダライタ TR3XM-SB01 タカヤ(株)  製品画像

    RFIDリーダライタ TR3XM-SB01 タカヤ(株) 

    タカヤ(株)13.56MHz帯のマルチプロトコル対応、ハンディ型リーダ…

    ■長時間の操作が可能な軽量ボディ(約82g) ■操作はらくらく簡単なワンタッチ ■BluetoothでPC、タブレット端末、スマートフォンなどに接続可能 ■NFCタグに対応 ■電源:単四型充電池×2 またはアルカリ乾電池 ■連続稼働時間:約4時間(Bluetooth通信、RF送信ON) ■防水防塵性能:IP53相当 ■耐落下性能:1.5m ■外形寸法:58×105×18.5(mm) ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器 製品画像

    12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。照射が可能で、手ごろな価格も魅…

    製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることでUV照射が可能 ■小型かつ軽量 ■ランプの寿命は20,000時間をクリア ■液晶...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下18のIR (赤外)ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ■窒素ガスパージ方式による降温に対応 ■プロセスガス最大4系統(MFC) ■到達真空度10-1Pa (TMP搭載のH...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ダイシングリング洗浄装置『株式会社 高田工業所製』 製品画像

    ダイシングリング洗浄装置『株式会社 高田工業所製』

    ジェット洗浄タイプ(非接触式)と、スクラブ洗浄タイプ(接触式)の2種類…

    今まで手作業での洗浄や、業者へ洗浄を依頼していたりとランニングコストや作業面でお困りではありませんか? 装置はダイシングフレームを自動搬送で洗浄処理致します。  ・ジェット洗浄タイプ(ランニングコスト低減に特化したタイプ)  ・スクラブ洗浄タイプ(洗浄力に特化したタイプ) 上記の2種類をラインナ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24のIR (赤外)ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ■窒素ガスパージ方式による降温に対応 ■プロセスガス最大4系統(MFC) ■到達真空度0.1Pa (TMP搭載のHV...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24のIR (赤外)ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ■窒素ガスパージ方式による降温に対応 ■プロセスガス最大4系統(MFC) ■到達真空度10-1Pa (TMP搭載のH...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~ 製品画像

    【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~

    卓上で使えるコンパクトな硬化装置。上/下両面照射が可能で、手ごろな価格…

    製品は、上/下両面照射が可能な紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。(※LED照明タイプもございます。) 【特長】 ■上/下両面照射が可能 ■小型かつ軽量 ■ランプ寿命は4,000時間をクリア ■液晶画面で操作が簡単 ※詳しく...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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