除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

食品衛生法に適合！コーティング技術※採用事例集 進呈

PR食材や調味料の付着や油汚れを減らし洗浄時間は最大1/2の事例も有り。

【こんなお客様に！】 ◎食品搬送ラインの品物の滞留で困っている･･･ ◎設備に付着した油などの洗浄に時間がかかる･･･etc ⇒非粘着性、撥水性、滑り性に関するお悩みを解決いたします！ 【特長】 ◆食品製造ラインへの採用実績多数 ◆撥水性、滑り性が非常に優れている ⇒Ni金属をベースにPTFEを複合した皮膜 ◆金属膜のため硬く、傷がつきにくく、長持ち ◆ステンレスとの密着性が良好 ◆食品衛生法に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本プロトン

パイオクリン緊急保安装置　MODEL-WGR

大気とともに吸引して有害成分を許容濃度以下に除害する保安装置です。

容濃度以下に除害する保安装置です。 【特長】 ・緊急保安用パイオクリンは、大風量のもとでも極めて優れた処理能力を有します。 ・毒性の高いガス等を短時間で許容濃度以下に除害します。 ・本装置は圧力損失が極めて小さくブロワー動力を低減出来ます。 ・装置全体はコンパクトとなっており設置面積は小さくて済みます。 ・インバータを標準装備しており、漏洩信号入力により通常排気から緊急排...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社

アンモニア分解除害装置

GaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。

本装置は主にGaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。 常温乾式除害と触媒分解式除害を効率よく組み合わせ、メンテナンス性向上、 ランニングコスト及び環境負荷の低減を可能に致しました。 【特長】 ・本装置はNH3を触媒分解により窒素と水素に分解、完全無害化します。 ・MOを含むGaN製造プロセス排ガス中の有毒ガスを効率的かつ安全に除害します。 ・酸化法によるNH3除害...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社

吸着再生式排ガス処理装置

エッチングプロセス用の湿式除害装置です。

本装置は、エッチングプロセス用の湿式除害装置です。 Cl2、HBr、BCl3、HCl、HF、SiF4、etc対象ガスを、 従来の湿式除害では出来なかったTLV値以下まで除去することが可能です。 【特長】 ・吸着筒を水で再生するため、カートリッジは長寿命です。 ・水のみを使用するため、アルカリ汚染がありません。 ・水の使用量が少ないため、ランニングコストが低減できます。 ・気液接触...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社

燃焼式排ガス処理装置

燃焼式排ガス処理装置です

本装置は半導体製造装置により排出されるSiH4等の水素化合物、C2F6、SF6等の フッ素化合物等の排ガスを燃焼バーナーの熱排ガスを利用して熱分解させることにより 処理します。また、熱分解後の生成物（SiO2粉、酸性ガス等）は同パッケージ内の ウェットスクラバーにて後処理します。 【特長】 ・燃焼ノズルと二次燃焼室を分離することにより、流量変動時に安定燃焼が可能です。 ・最大処理流量50...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社