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7件 - メーカー・取り扱い企業
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PRピークが重複する複雑な有機化合物の構造解析が可能です。
NMRを用いた有機化合物の構造解析では、一般的に1次元NMR (1H-NMR・13C-NMR)のほかに1次元NMR のピーク同士の相関を確認できる2次元NMRを用いてピークを帰属することで化合物の構造を決定します。しかし、類似構造を多数含む糖類などの化合物では2次元NMRでもピークが重複するため解析が困難です。このような場合には3次元NMRが有効です。 本資料ではオリゴ糖をモデル化合物として、3...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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PR食材や調味料の付着や油汚れを減らし洗浄時間は最大1/2の事例も有り。
【こんなお客様に!】 ◎食品搬送ラインの品物の滞留で困っている・・・ ◎設備に付着した油などの洗浄に時間がかかる・・・etc ⇒非粘着性、撥水性、滑り性に関するお悩みを解決いたします! 【特長】 ◆食品製造ラインへの採用実績多数 ◆撥水性、滑り性が非常に優れている ⇒Ni金属をベースにPTFEを複合した皮膜 ◆金属膜のため硬く、傷がつきにくく、長持ち ◆ステンレスとの密着性が良好 ◆食品衛生法に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本プロトン
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大気とともに吸引して有害成分を許容濃度以下に除害する保安装置です。
容濃度以下に除害する保安装置です。 【特長】 ・緊急保安用パイオクリンは、大風量のもとでも極めて優れた処理能力を有します。 ・毒性の高いガス等を短時間で許容濃度以下に除害します。 ・本装置は圧力損失が極めて小さくブロワー動力を低減出来ます。 ・装置全体はコンパクトとなっており設置面積は小さくて済みます。 ・インバータを標準装備しており、漏洩信号入力により通常排気から緊急排...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
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GaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。
本装置は主にGaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。 常温乾式除害と触媒分解式除害を効率よく組み合わせ、メンテナンス性向上、 ランニングコスト及び環境負荷の低減を可能に致しました。 【特長】 ・本装置はNH3を触媒分解により窒素と水素に分解、完全無害化します。 ・MOを含むGaN製造プロセス排ガス中の有毒ガスを効率的かつ安全に除害します。 ・酸化法によるNH3除害...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
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GCMC法による活性炭素繊維の細孔分布評価から、細孔の構造をモデル化
BELSORP MAXにより、ACF (KURACTIVE FT-07) の極低相対圧(p/p0=1E-8)から N2@77.4 K吸着等温線(前処理:300℃、12 h)を測定。 本実測吸着等温線をスリット、カーボンのN2@77.4K GCMC カーネルを用いて 計算した理想吸着等温線などを図で示しています。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■図1 活性炭素繊...
メーカー・取り扱い企業: マイクロトラック・ベル株式会社
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純粋ガスの圧送が可能!一段圧縮、二段圧縮型を豊富にラインアップ
本製品は、オイルレスのため純粋ガスの圧送が可能な特殊ガス圧縮機です。 空冷シリンダーで冷却水が不要。 また、各軸受・メタルヘの潤滑はオイルポンプ内蔵で強制潤滑されます。 一段圧縮、二段圧縮型があり、機種も豊富にラインアップしています。 【特長】 ■オイルレスのため純粋ガスの圧送が可能 ■機種が豊富 ■空冷シリンダーで冷却水不要 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問...
メーカー・取り扱い企業: ミクニキカイ株式会社
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なめらかな波状形状に設計!圧力損失が小さく、動力の節減にもなる
のミストを99%以上も 除去できる製品です。 ブレードに衝突したミストを集める爪状の突起(トラフ)とブレード面に きざまれたノッチにより高効率のミストが除去でき、又、再飛散を防止。 本ブレードにて20μ以上の粒子はほぼ完全に分離できます。 また、30m3/min程度の小さなものから1400m3/minの大きな ものまで納入しています。 【特長】 ■高効率分離 ■低圧...
メーカー・取り扱い企業: IMCDジャパン合同会社
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エッチングプロセス用の湿式除害装置です。
本装置は、エッチングプロセス用の湿式除害装置です。 Cl2、HBr、BCl3、HCl、HF、SiF4、etc対象ガスを、 従来の湿式除害では出来なかったTLV値以下まで除去することが可能です。 【特長】 ・吸着筒を水で再生するため、カートリッジは長寿命です。 ・水のみを使用するため、アルカリ汚染がありません。 ・水の使用量が少ないため、ランニングコストが低減できます。 ・気液接触...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
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燃焼式排ガス処理装置です
本装置は半導体製造装置により排出されるSiH4等の水素化合物、C2F6、SF6等の フッ素化合物等の排ガスを燃焼バーナーの熱排ガスを利用して熱分解させることにより 処理します。また、熱分解後の生成物(SiO2粉、酸性ガス等)は同パッケージ内の ウェットスクラバーにて後処理します。 【特長】 ・燃焼ノズルと二次燃焼室を分離することにより、流量変動時に安定燃焼が可能です。 ・最大処理流量50...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社
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