• 『多変量統計解析トレーニングセミナー』11月28日・29日開催 製品画像

    『多変量統計解析トレーニングセミナー』11月28日・29日開催

    PR多変量解析の基礎・原理が良くわかる。実データを用いた解析も行う実践的な…

    2024年11月28日・29日に、当社主催のセミナー 『多変量統計解析トレーニングコース<レベル1> 理論と実践』 を開催いたします。 本コースでは、複雑なデータの関係性を速やかに解釈し、 産業界、研究界で希求される最新の多変量解析技術を どのように業務応用できるかを集中的に学べます。 多変量統計解析、スペクトル解析、知覚・官能データの解析、PAT/QbDなどを テーマに解説する、数学的説明は...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クオリテイデザイン

  • 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 測定器『照度モニタ』 製品画像

    測定器『照度モニタ』

    エキシマ紫外線からLED紫外線まで各種対応可能な測定器!

    【仕様】 〔体〕 ■表示:液晶デジタル表示 ■モニタ範囲:0~999mW/cm2 ■出力:出力電圧 0~3.5V ■電源:9Vアルカリ乾電池1 ■外径寸法:90(W)×150(D)×20(H)mm ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】湿式プロセスによるTiO2ゲル膜に対する光照射効果 製品画像

    【技術資料】湿式プロセスによるTiO2ゲル膜に対する光照射効果

    薄膜形成プロセスの低温化に寄与!分解過程と結晶構造の変化について比較検…

    子の結合エネルギーよりも大きく なります。 また、照射による熱過程をともなわずに光子の作用のみで原子の結合を開裂 できるため、薄膜形成プロセスの低温化に寄与するものと期待できます。 研究では、工業的に多用されているTiO2について、ゲル膜を熱処理した ときおよび、エキシマランプによるVUV光照射と熱処理を併用したときの 分解過程と結晶構造の変化について比較検討しました。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成 製品画像

    【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

    強い酸化作用を利用!照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質につい…

    比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、 酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。 そこで、薄膜形成時の照射雰囲気にお...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】真空紫外エキシマランプを用いたポリエチレンの表面改質 製品画像

    【技術資料】真空紫外エキシマランプを用いたポリエチレンの表面改質

    波長172nmの真空紫外光をポリエチレンシートに照射!表面の改質につい…

    持ち、 様々な分子内結合を効率よく光解離が可能。 このため、ランプは液晶表示パネルに使われるガラス基板の精密光洗浄などに 実用化されているのを始め、様々な応用展開が図られています。 研究では、汎用樹脂であるが、印刷性・接着性が低いポリエチレンに、 真空紫外光を照射した際の、表面の物理・化学的変化について検討を行い ました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】真空紫外光を用いたポリマーの改質と照射雰囲気効果 製品画像

    【技術資料】真空紫外光を用いたポリマーの改質と照射雰囲気効果

    真空紫外(VUV)光を用いた表面改質技術!改質効果の違いについて検討

    ため、非熱過程で分子の結合を 切断することが可能。 物理的表面処理として代表的なプラズマ処理等と比べ、低コストかつ表面への ダメージが少なく、表面処理ができるという特長を持ちます。 研究では、真空紫外光をポリマーに照射し、照射に伴う表面の物理、 化学的変化と、照射中の雰囲気ガスによる改質効果の違いについて検討を 行いました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

  • 【技術資料】キセノンエキシマ真空紫外光ランプの高出力化 製品画像

    【技術資料】キセノンエキシマ真空紫外光ランプの高出力化

    1~2kW/m2の光照度の実現!高出力化に必要な要素技術の検討

    ノンガスを用いたエキシマランプでは、波長172nmの 真空紫外光を、100W/m2という高い光照度で生み出すことができ、 材料表面の光分解洗浄や光表面改質などに盛んに応用が進んでいます。 発表では、従来のランプより10~20倍明るい、1~2kW/m2の 光照度の実現を念頭に置いて、高出力化に必要な要素技術の検討を 行いました。 【掲載内容】 ■エキシマランプの原理と研究開...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー

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