• NEWマイクロミックス<真空加熱(冷却)式>【※試せます】 製品画像

    NEWマイクロミックス<真空加熱(冷却)式>【※試せます】

    PRトリプル回転機構を採用!目的に応じたオプション製作も可能で、テスト対応…

    『NEWマイクロミックス』は、臼の回転とは逆方向に公転する杵と 自転する杵先により、効率の良い撹拌、混合、すり潰しが可能な 真空加熱(冷却)式の製品です。 独自の回転スクレーバーによって粉砕効率も大幅アップ。 また、真空ポンプを搭載することで、容器内を減圧した状態で 撹拌ができます。 【特長(主な機能)】 ■「トリプル回転機構」により、効率の良い攪拌・粉砕・混合が可能 ■原料を運び込みながら...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤナギヤ 東京営業本部

  • 半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト 製品画像

    半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

    ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

    【その他の特長】 ■粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで、  真空チャンバーを用いる実験や装置開発に有用 ■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを  計算することが可能 ■高...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

    プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析 製品画像

    事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

    代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP(容量結合プラズマ)エッチングに関する3Dでの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

    Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

    代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP(容量結合プラズマ)エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

    Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

    プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、 RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

    CCP(容量結合プラズマ)装置のプラズマ解析に関する事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても 高速にシミュレーションを行うことができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D 製品画像

    【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

    「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

    『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、  高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

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