「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内

PR食品や電池・電子材料など各テーマに沿って、粉粒体装置を使用したアプリケ…

株式会社パウレックは、東京ビッグサイトにて開催される「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」に出展いたします。 当社のブースでは“POWREXFESTA"と題しまして、パウレックオールスターによる ブース内セミナーを実施。業界別・機種別の各種テーマに沿って、当社装置を使用した アプリケーション事例をご紹介させていただきます。 ドリンクやお菓子もご用意し、学園祭さながらの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パウレック

除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

改質実験装置『ASM1101N』

安全な作業環境を確保！

『ASM401N』は、設置が簡単な卓上型のUV/オゾン洗浄改質 実験装置です。 特殊形状の低圧水銀ランプを採用し、高出力・高均斉を可能にし、 10mm刻みで照射距離が調整できるので、正確なデータ取りとスピーディな 処理が可能です。 オゾン漏れや紫外線漏れの心配が無い紫外線安全対策機能付き。 コンパクトな箱型設計なので、省スペース、低...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

表面改質装置『フォトニッククリーナー ASM401iMP』

密着強度の向上・親水性の向上・ぬれ性の改善などに役立つ！

【仕様】 ■外形寸法（mm）：本体W350×D220×H235 ■紫外線照度：10mW/cm2以上（照射距離10mm） ■試料エリア（mm）：W30×D100×H38 ■その他 　・タイマーによる照射時間の制御 　・安全機能　※扉開閉時のランプ消灯 　・オゾン排気装置標...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

表面改質装置『ASM401N』

正確なデータ取りが可能！

【仕様】 ■本体材質：ステンレス（SUS304）、SS ■外形寸法：W200×L210×H265 (mm) ■紫外線照度：10mW/cm2以上（照射距離10mm） ■ランプ出力：40W ■照射距離：10～50（mm）※10mm単位の調整が可能 ■照射エリア：50×50（mm）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研