除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

ゼロエアジェネレーター

最大 100 セットの FID にガス供給が可能なガスジェネレーター！…

『ゼロエアジェネレーター』は、最大 100 セットの FIDにガス供給可能です。 UHP ゼロエアをショップエアから精製可能。 発生ガスのベースラインはボンベガスに比べて非常にフラットで 安定しています。 【特長】...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社旭ケミカルス

TOCガスジェネレーター『TOC-1250/TOC-625』

小型！TOCメーカーのガス要件を満たす、エアの供給が可能なガスジェネレ…

【仕様】 ■TOC-625 ・出力TOCガス流量(100psig時)：625ml/min ・出力エア炭化水素濃度（メタン換算）：0.05ppm ・出力エア二酸化炭素濃度：< 1ppm ・出力エア一酸化炭素濃度：< 1ppm ・サイズ(cm):W...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社旭ケミカルス

強力な殺菌力！床洗浄にも好適！『可搬式オゾン水生成装置』

直接電解式で大流量のオゾン水を生成（オゾンガス不要）　可搬式で小型なの…

．オゾン水濃度　　：　1～5mg/L ２．オゾン水量　　　：　5～18L/min ３．オゾン水濃度計　：　センサー方式 ４．消費電力　　　　：　最大450W ５．電源　　　　　　：　AC100V　50/60Hz ６．本体寸法　　　　：　588mm×279mm×658mm 　　　　　　　　　　　　（※手押ハンドル別） ７．本体重量　　　　：　約25kg　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社旭ケミカルス

超高純度水素ガス発生装置『H２PEM』危険で高価な水素ボンベ不要

発生ガス純度が99.9995%以上！ 水素ボンベより安全で高圧ガス認定…

【ラインアップ】 ■H2PEM‐100 ■H2PEM‐165 ■H2PEM‐260 ■H2PEM‐510 ※特設サイトに関連資料もございます。PDFをご覧いただくか直接お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社旭ケミカルス

高純度水素ガス発生装置　『H２PEM』

発生ガス純度が99.9995%以上！　危険で高価な水素ボンベが不要！ …

【ラインアップ】 ■H2PEM‐100 ■H2PEM‐165 ■H2PEM‐260 ■H2PEM‐510 ※特設サイトに関連資料もございます。PDFをご覧いただくか直接お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社旭ケミカルス