除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

高周波溶着機　電動シリンダー仕様「PLASEST-05E」

PR電動シリンダー搭載で「品質向上・数値管理」　簡単操作で高い生産性を実現…

「PLASEST-05E型」の稼働に必要なものは200V電源のみで、コンプレッサは不要です。 また、溶着後の厚み・加圧力と高周波条件を数値による設定管理を行う事で出来きます。 加工品の品質向上・安定した製品を生産できる高周波溶着機です。 タッチパネルに条件を保存することにより再現性の高い加工が可能。 電動シリンダーを採用により、下降速度、プレス間隔、加圧力、仕上げ厚みを制御可能。 特...

メーカー・取り扱い企業： 山本ビニター株式会社

ウェハ外観検査装置（画像式）

ウェハの欠陥目視検査を自動化を実現

【検出可能な最小欠陥】 　30um 【対象形状】 　円形：直径200mm以下 　矩形：140mm□以下 　※上記以上のサイズを測定されたい場合、ご相談ください。 【検査時間】 　100PPH ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クボタ計装

ウェハ表面欠陥検査装置（レーザー式）

高出力レーザーで微小欠陥を検出！

高出力レーザーを回転ステージ上のウェハに照射することで、 高速に全面を検査し、微小欠陥を検出します。 散乱、反射、位相シフトなど複数チャンネルの組合せによって 用途に適した欠陥検出ができ、凹凸など欠陥種ごとに弁別します。 ■装置の特長 ・高速検査（約９１秒/6inch） ・PSL 50nm(オプション追加で40nm)相当の微小欠陥検出 ・欠陥の凹凸を弁別 ・SEM等での分析用にケガキ可能 ・レー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クボタ計装

レビュー機能付きウェハ表面欠陥検査装置

レビュー用顕微鏡搭載！検出した欠陥を顕微鏡でリアルタイムに観察可能です

渉) or 微分干渉顕微鏡 【対象基板】 種　　　類：　透明体を含む各種基板 サ　イ　ズ：　２～１２inch、形状など別途相談に応じます 【装置サイズ】 外形寸法　：　W1,800 x D2,100 x H1,985 (mm) 質　　　量：　約1200kg ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クボタ計装

ウェハ表面欠陥検査装置（画像式）

透明素材にも対応する高精度検査装置

微分干渉顕微鏡を搭載した表面欠陥検査装置で 透明体材料にも適用しております。 全面検査による欠陥マップ出力や検出した欠陥の 顕微鏡観察が可能な装置です。 ■装置の特長 ・独自の画像処理技術による欠陥抽出・弁別機能 ・欠陥を観察しながら高精度なケガキが可能 ・他装置で検査したウェハに対し、欠陥座標を元に 　観察、欠陥アルバムの作成が可能。 ・結晶欠陥の検出機能を開発中...【検出】 方　　　式：　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クボタ計装