除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

手動式粉体試料採取器『SAMPER(サンパー)』

PR縦式で粉末を確実に採取！高強度の優れた材質を使用した粉体試料採取器

『SAMPER(サンパー)』は、粉体サンプルの上部はもちろん、中間部や 底の粉体サンプリングも正確に採取する手動式粉体試料採取器です。 サイドフィンは流動性の悪い粉体も巻き込んでキャッチし採取。 外筒本体と内筒による回転式2重構造により粉体を逃しません。 材質はステンレス製の鋼材(SUS304)で、各種化学薬品にも強く、 物理的強度も強い構造です。 【特長】 ■縦式で粉末...

メーカー・取り扱い企業： 福伸工業株式会社

3インチ、4インチ、6インチに対応可能　「SOSウェーハ」

直径3インチ、4インチ、6インチのSOSウェーハ（シリコンオンサファイ…

面の基板上にシリコンをエピタキシャル成長させたウェーハです。 圧力センサーなど様々なデバイスに使用されています。また放射線に対する耐性が高いのが特徴です。 3インチ(76mm)、4インチ(100mm)、6インチ(150mm)のSOSウェーハをご紹介可能です。仕様によりますが8インチも対応可能な場合がありますので是非お問い合わせください。 エピ層のドーパントはN型はPhosphoro...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

FZウェーハ　FZシリコン製品　ガスドープドＦＺシリコン

汚染物質の少ないFZ法で製造された高品質・高純度・高抵抗のFZシリコン…

) : 30,5 - 34,5 (1-10) +/- 1 Deg. 第二オリフラ(mm) : N.A. タイプ: N-type/Phosphorous ライフタイム(microsec) : 1000 抵抗値(ohm cm) 25°C. : 2032,00 抵抗値公差(ohm cm) : ±700,00 RRV [%] : N.A. ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

FZウェーハ　FZシリコン製品　パワーデバイス用NTDシリコン

半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用できます

れている ○電力用サイリスタ（シリコン制御整流器）として使用されている ○半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用可能 【仕様】 ○直径：50mm,　75mm,　100mm, 125mm, 150mm, 200mm ○結晶方位：＜100＞or＜111＞ ○伝導型（ドーパント）：N(Phosphorus) ○抵抗率：30-500,600 オーム　程度 ○抵...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

CZウェーハ　エピ受託加工　SiGeエピウェーハ　他

小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応…

「エピウェーハ」 1. ディスクリートデバイス向けや IC powerデバイス向けに使用されております。 ＊直径: 100-200 mm ＊Epi層ドーパント: Boron 、Phosphorous ＊Epi層抵抗値: 0.01-500 Ω/cm ＊Epi厚: 1-150 um ＊Stacking fault...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社