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PR工程中に発生する二次凝集品の造粒物(ダマ)をほぐします! 低速回転の…
工程中に発生する二次凝集品の造粒物をほぐします! ランデルミルは粉体処理の中間工程、特にふるい分け・混合・貯蔵・計量・充填操作など単位操作のコンディショニングにも有効です。 さらに、分解・洗浄が容易なのでサニタリー性を要求する食品・医薬品・化学薬品などの解砕に好適です。 【特長】 ・シンプルなワンローラータイプ ・工具なしで分解、組み立てが可能 ・密閉構造で、粉漏れがない ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社徳寿工作所
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無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』
PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm~高濃度1200ppm まで…
当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05~高濃度1200ppm(校正値1000ppm 検知管使用 当社...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社
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iChrome FLEは最大7波長を出力する顕微鏡用レーザーコンバイ…
iChrome FLEは405 ~785 nmの全ての重要な蛍光色素に対応した最大7波長を搭載可能です。ファイバ端での出力は最大100mWを実現し、スピニングディスク、ライトシート顕微鏡など様々な最先端のアプリケーションに対応します。出力は1ラインまたは2ラインから選択可能で、内蔵したCOOL AC 自動ファイバアライメント機能...
メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部
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時間領域テラヘルツプラットフォーム『TeraFlash pro』
多用途な時間領域テラヘルツプラットフォーム!英語版カタログを進呈してい…
『TeraFlash pro』は、テーブルトップ型の時間領域テラヘルツ分光 プラットフォームです。 近年改善されたレーザーとアンテナデザインにより、このシステムは 100dBのピークダイナミックレンジ、6THz以上のバンド幅を達成。 ダイナミックレンジ、バンド幅と測定スピードで新基準を作りだしています。 高精細なメカニカル遅延ステージを搭載していることによ...
メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部
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193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266…
ることで電気/光変換効率、装置サイズ、寿命、消耗品コストなど多くの点に関して一般的に使用されてきたガスレーザーより優位性を備えています。 ・最大数百mWクラスの高出力 ・高いコヒーレンス:100mを超えるコヒーレンス長(<1MHz線幅) ・低いランニングコスト ・深紫外から可視まで豊富な波長ライナップ (波長チューニングオプション) ・堅牢 & 高い信頼性(周波数安定化オプション)...
メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部
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フェムト秒レーザー『FemtoFiber ultra 920』
十分な出力パワー、短パルス!当社独自のクリーン-パルス技術を備えていま…
【仕様】 ■中心波長:920nm ■パルス幅:< 100fs ■平均出力:> 1.5W ■パルス繰り返し:80MHz ■モータ駆動分散補償レンジ(GDD):-40000 .. +1000fs2 ■内蔵パワー制御機能(AOM,オプション対応):>...
メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部
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HeNeレーザーの置き換えに! 高出力633nm半導体レーザー
TOPMODE 633レーザーはHeNeレーザーの置き換え用に開発され…
25mW(ファイバ) ・線幅:5MHz以下(0.01pm以下) ・可干渉距離:25メートル以上 ・強度ノイズ:≤ 0.1% @ 10 Hz - 10 MHz ・偏光特性:直線偏向(水平)、100:1以上 ・光アイソレータ内蔵 ・CHARM周波数安定化機能内蔵 ...
メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部
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405nm、1Wの高出力で単一周波数発振を実現。ハンドリングが容易な連…
・オール半導体レーザー方式 ・CW発振 ・1 Watt @ 405 nm ・ビーム品質: M² = 1.15 (典型値) ・コヒーレンス長: > 100 m 可干渉距離 (発振線幅< 1 MHz) ・高い電気/光 変換効率 ・簡単なボタン操作のみの直観的なユーザインターフェース ・各種リモート制御機能...
メーカー・取り扱い企業: トプティカフォトニクス株式会社 営業部
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