• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 【無償サンプル提供】エキス『NC真昆布L-1』 製品画像

    【無償サンプル提供】エキス『NC真昆布L-1』

    PR強いうま味を付与可能!後味の異味が少なく、真昆布本来の上品なうま味を再…

    『NC真昆布L-1』は、だし感の付与、中~後味のうま味強化、素材訴求に 活用できる昆布エキスです。 素材の風味を引き立て、自然なだし感を付与可能。 全体的な味が底上げされ、まとまりのある味に仕上げます。 また、最高級品といわれる真昆布のみを使用しており、 高級感のあるメニュー開発にご活用いただけます。 【特長】 ■厳選した北海道道南産の真昆布原料を使用 ■特殊抽出製法 ■調味料(アミノ酸等)...

    メーカー・取り扱い企業: 焼津水産化学工業株式会社 静岡本部

  • No.17 SF法によるメソポーラスゼオライトのマイクロ孔評価 製品画像

    No.17 SF法によるメソポーラスゼオライトのマイクロ孔評価

    【資料】SF法によるメソポーラスゼオライトのマイクロ孔評価のご紹介! …

    当資料は、SF法によるメソポーラスゼオライトのマイクロ孔評価について、 図やグラフなど用いてご紹介しています。 SF(Saito-Foley)法はシリンダー型マイクロ孔を仮定し、HK法を拡張した式1 により細孔径と相対圧の関係式が得られます。 NH4型ZSM-5(MFI型ゼオライト)を大気圧下で535℃、3hr加熱処理し調製したH+型 ZSM-5は、200nm前後の多面体層状粒子...

    メーカー・取り扱い企業: マイクロトラック・ベル株式会社

  • No.13 t-plot法によるメソポーラスゼ...(応用編4) 製品画像

    No.13 t-plot法によるメソポーラスゼ...(応用編4)

    【資料】t-plot法によるメソポーラスゼオライトの構造評価(応用編4…

    当資料では、t-plot法によるメソポーラスゼオライトの構造評価(応用編4) について、グラフや表を用いてご紹介しています。 NH4型ZSM-5を大気圧下で535℃、3h加熱処理し調製したH+型ZSM-5は、SEM 画像より、200nm前後の多面体層状粒子の凝集体で、粒子間はスリット型の 細孔からなることが確認できます。 H+型ZSM-5のN2、77.4K吸脱着等温線では、p/p...

    メーカー・取り扱い企業: マイクロトラック・ベル株式会社

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